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王自荣

作品数:3 被引量:7H指数:1
供职机构:武汉科技大学材料与冶金学院更多>>
相关领域:金属学及工艺理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇多弧离子镀
  • 2篇离子镀
  • 2篇铝合金
  • 2篇铝合金表面
  • 2篇合金
  • 2篇合金表面
  • 2篇TIN薄膜
  • 2篇ZL109
  • 1篇氮化
  • 1篇性能研究
  • 1篇离子氮化
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨性
  • 1篇PCVD
  • 1篇PECVD
  • 1篇TICN
  • 1篇TIN膜

机构

  • 3篇武汉科技大学
  • 1篇武汉钢铁股份...

作者

  • 3篇王自荣
  • 2篇潘应君
  • 1篇唐望生
  • 1篇刘红梅
  • 1篇邓敏
  • 1篇温玉磊
  • 1篇栾成

传媒

  • 1篇特种铸造及有...
  • 1篇工具技术

年份

  • 2篇2010
  • 1篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
ZL109铝合金表面离子镀TiN膜的工艺及性能研究
材料表面处理技术已成为当前改善材料表面各种性能的有力手段,是材料科学界的研究热点。TiN薄膜以其高的抗磨、抗蚀的优异性能在工业领域得到了广泛的应用。铝合金硬度和屈服强度低,相对钢及其它材料来说表现出了很差的耐磨性,因而减...
王自荣
关键词:多弧离子镀TIN薄膜
文献传递
ZL109铝合金表面离子镀TiN薄膜及耐磨性被引量:1
2010年
采用多弧等离子体辅助物理气相沉积法,在ZL109铝合金表面沉积了TiN薄膜并对其形貌结构及耐磨性进行了研究。结果表明,在温度较低时TiN薄膜在ZL109铝合金表面生长方式为平面生长模式,随着沉积温度的升高及时间的延长,生长方式向岛状生长模式转化;在沉积温度为280℃,时间为1h时,得到的TiN薄膜厚度在2μm以上;ZL109铝合金表面沉积TiN薄膜后耐磨性提高约4倍。
王自荣潘应君唐望生栾成邓敏温玉磊
关键词:多弧离子镀TIN薄膜耐磨性
离子氮化—PECVD复合处理沉积TiCN薄膜的性能研究被引量:5
2008年
采用离子氮化及等离子体增强化学气相沉积复合处理方法在高速钢W18Cr4V基体上沉积TiCN涂层,即在沉积之前先对试样进行氮化处理。以金属有机物钛酸丙酯[化学式(C3H7O)4Ti]作为钛源沉积TiCN薄膜,并对最佳工艺条件下制备的薄膜进行了组织与物相观察、截面显微硬度测验、氧化试验以及耐磨试验。结果显示:经过复合处理的试样具有较平缓的截面硬度梯度、高的抗氧化性能(涂层在600℃以下具有良好的抗氧化性)和较好的耐磨性。
刘红梅潘应君王自荣
关键词:PCVD离子氮化TICN
共1页<1>
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