刘云
- 作品数：9 被引量：27H指数：3
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- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 一种基于四象限光电探测器的对准新方法被引量：14
- 2006年
- 在分析四象限光电探测器工作原理的基础上,提出了一种利用2个四象限光电探测器实现掩模板对准的新方法。激光器与四象限探测器位置固定,掩模板处于激光器与四象限探测器之间。透过掩模板上的2个透光米字形标记,激光光束照射到四象限探测器的光敏面。根据2个四象限探测器的输出,计算出掩模板的位置和姿态偏差,通过运动平台调整掩模板的位置和姿态,实现对准。
- 王秀青徐德谭民刘云
- 关键词：掩模板
- 掩模传输系统四象限对准装置
- 本发明掩模传输系统四象限对准装置，可以实现掩模板位置与姿态信息的测量，据此通过夹持掩模板的掩模传输机械手调整掩模板，达到所期望的位置和姿态。该装置包括两个激光器、标有两个米字形对准标记的掩模板、两个滤光片、接收米字形光斑...
- 谭民徐德王秀青赵晓光刘云汪建华
- 文献传递
- 基于PLC的大范围运动与高精度对准控制被引量：3
- 2007年
- 针对掩模版传输过程中的大范围运动与高精度对准这两个关键问题,本文采用基于PLC的全闭环位置控制方法,设计了用于掩模版传输和对准的机械手控制系统。对于大范围运动,利用旋转编码器和光栅尺检测机械手的速度和位移,构成三闭环控制系统。对于高精度对准,利用四象限探测器检测掩模版位置与姿态偏差,构成四闭环控制系统。实验结果表明,利用本文控制系统,机械手在大范围传输和高精度对准时的速度和精度都可以满足生产要求。
- 李庆涛徐德刘云汪建华
- 关键词：运动控制器四象限探测器
- 基于四象限探测器的掩模版对准检测与控制被引量：3
- 2007年
- 提出一种基于可编程控制器和四象限探测器的集成电路掩模版对准系统.该系统采用两个四象限探测器构成对准检测装置,实现对掩模版对准误差的实时检测.通过合理选择对准检测装置的安装位置与姿态,实现对准误差与掩模版运动之间的解耦.对准过程中,根据检测到的对准误差,由可编程控制器对传输机械手的位置和姿态进行调整,从而改变掩模版相对于对准检测装置的位置和姿态.对准控制采用阶梯步长逐步逼近算法,并且引入了机械手姿态调整后的补偿控制,以提高对准效率.实验结果表明,该检测与控制系统工作安全可靠,对准速度快,精度高.
- 汪建华徐德刘云赵晓光王秀青谭民
- 关键词：四象限探测器掩模版
- 一种掩模与硅片的底面自动对准方法
- 2007年
- 硅片对准标记中心位置的求解是掩模与硅片底面自动对准的重要环节.对于对称标记图像,提出了基于矩的中心位置求解方法;对于非对称标记图像,采用Hough变换和聚类分析的方法求解标记中心位置.在此基础上,提出了掩模与硅片底面自动对准的方法.仿真实验证明了该对准方法的有效性.
- 刘云徐德谭民
- 关键词：底面对准HOUGH变换聚类分析
- 掩模传输系统的运动控制与预对准方法研究
- 掩模传输系统是光刻机的重要外围设备，它承担着掩模版传输和预对准的任务。本文围绕着掩模传输系统的功能要求，对掩模传输系统中的运动控制和预对准方法进行了研究。主要内容包括：
⑴对集成电路技术的发展、掩模光刻技术、掩模传...
- 刘云
- 关键词：光电探测器运动控制
- 掩模传输系统四象限对准装置
- 本发明掩模传输系统四象限对准装置，可以实现掩模板位置与姿态信息的测量，据此通过夹持掩模板的掩模传输机械手调整掩模板，达到所期望的位置和姿态。该装置包括两个激光器、标有两个米字形对准标记的掩模板、两个滤光片、接收米字形光斑...
- 谭民徐德王秀青赵晓光刘云汪建华
- 文献传递
- 基于遗传算法的人工神经网络方法在激光切割工艺参数选取中的应用被引量：7
- 2006年
- 针对激光切割过程中的主要参数,切割速度,版材厚度,辅助气压的大小以及激光器功率的选择,建立了一个基于遗传算法的人工神经网络结构。实验结果表明,该方法将遗传算法和神经网络的优点结合起来,克服了神经网络中容易陷于局部最优和遗传算法中收敛速度较慢的问题。从而解决了激光切割过程中选参难的问题。
- 刘云徐德谭民
- 关键词：遗传算法人工神经网络激光切割
- 一种新型的掩膜管理控制系统的研制
- 2007年
- 研制了一种与掩膜光刻机相配套的新型掩膜管理控制系统。系统硬件由1个4自由度机械手、2个版库、粗预对准机构、精细预对准机构、PIE控制器和伺服驱动器等构成；系统软件由基于VC的上层管理程序以及基于梯形图的底层流程控制程序构成，其中上掩膜版和卸掩膜版是流程控制的主要组成部分。介绍了四象限光电探测器的对准工作原理和掩膜版的粗、精细预对准方法，实验测试了上、卸掩膜版的节拍，粗、精细预对准时间和掩膜版经过精细预对准后的重复定位精度，讨论了激光器和四象限光电探测器相对位姿的标定方法，并指出了该系统的特点。实验结果表明，该系统性能稳定，主要指标能够满足掩膜光刻机的实际生产要求。
- 刘云徐德汪建华王秀青赵晓光谭民
- 关键词：掩膜版控制系统光刻机梯形图
