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王琳

作品数:5 被引量:9H指数:3
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺理学一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇口径
  • 3篇光学
  • 2篇套圈
  • 2篇偏心
  • 2篇偏心轮
  • 2篇光学元件
  • 2篇反射波
  • 2篇分离器
  • 1篇元件
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇面形
  • 1篇关键参数
  • 1篇光学制造
  • 1篇超薄
  • 1篇大口径

机构

  • 5篇成都精密光学...

作者

  • 5篇何曼泽
  • 5篇王琳
  • 4篇杨李茗
  • 4篇周佩璠
  • 3篇刘义彬
  • 3篇鄢定尧
  • 3篇欧光亮
  • 2篇赵春茁
  • 2篇邱服民
  • 2篇胡江川
  • 2篇姜莉
  • 2篇刘民才
  • 2篇戴红岭
  • 2篇张宁
  • 2篇刘夏来
  • 2篇蔡红梅
  • 1篇马平

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇红外与激光工...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 3篇2011
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
大型环抛面形实时监测与控制被引量:3
2012年
为解决大型激光驱动器建设中的关键工艺大型精密环形抛光技术一直存在着的控制困难、精度收敛不稳定的难题,分析了环形抛光加工中面形调整控制机理和本质,找到了传统调节控制和判断方法中的缺陷,提出了一种对环抛机面形变化基本实时的离线监测方法。这种监测方法具有结构简单、检测判断时间短和面形变化反应直观的优点。通过建立实验监测装置和实际加工验证,获得了较好的面形趋势判断和实时控制效果。
欧光亮杨李茗王琳何曼泽刘义彬
关键词:光学制造关键参数
环摆抛双面抛光机
本发明公开了一种环摆抛双面抛光机,属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂,套圈与主动轮、限位轮外切,还包括辅机座和偏心轮,上盘的上端经主臂与辅机座连接,上盘上设有辅臂,辅臂外端与偏心轮连接,偏心轮...
杨李茗鄢定尧何曼泽刘民才王琳欧光亮周佩璠刘义彬刘夏来蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭邱服民赵春茁
环摆抛双面抛光机
本发明公开了一种环摆抛双面抛光机,属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂,套圈与主动轮、限位轮外切,还包括辅机座和偏心轮,上盘的上端经主臂与辅机座连接,上盘上设有辅臂,辅臂外端与偏心轮连接,偏心轮...
杨李茗鄢定尧何曼泽刘民才王琳欧光亮周佩璠刘义彬刘夏来蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭邱服民赵春茁
文献传递
3mm厚大口径超薄元件双面抛光工艺被引量:4
2013年
基于环摆双面抛光技术,研究了3mm厚大口径超薄元件的双面抛光加工工艺。通过对双面抛光原理的分析,对转速比、抛光垫面形、抛光液等工艺参数上作了优化,并通过加工模拟进行验证。通过工件环分离器减薄技术解决了3mm厚超薄元件的装夹问题。在SYP152双面主动抛光机上进行了加工工艺实验,通过调节转速比实现3mm厚大口径超薄元件面形的高效收敛,验证了加工的可行性,并且达到了面形精度优于1.5λ(λ=632.8nm)、表面粗糙度优于1nm的技术水平。
何曼泽王琳周佩璠马平鄢定尧
采用环摆抛的双面抛光技术被引量:3
2011年
针对大口径方形超薄光学元件的抛光,提出一种新型的基于环摆抛的双面抛光方法,该方法将环形抛光和钟摆式抛光的运动方式和加工机理耦合起来,使其具备同步控制大口径方形超薄光学元件透射波前和反射面形的特点。从理论上介绍了该方法的抛光原理,利用研制的双面抛光原理样机,通过实验验证了对大口径超薄光学元件的面形修正能力,证实了这种双面抛光方法的可行性。该方法在控制大口径超薄光学元件的透射波前和反射面形上具有显著的效果。
何曼泽王琳周佩璠杨李茗
共1页<1>
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