杨朝兴
- 作品数：22 被引量：33H指数：5
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市自然科学基金国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学更多>>
- 穆勒矩阵成像椭偏仪误差源的简化分析方法被引量：7
- 2019年
- 针对穆勒矩阵成像椭偏仪的系统误差源提出一种简化分析方法,将光强曲线的理想傅里叶级数系数组与实际系数组进行近似匹配,建立穆勒矩阵测量误差与误差源参数之间的线性模型。针对解析式复杂的随机方位角误差,从统计学角度提出了一种等效噪声模型以分析其对测量结果的影响。采用上述简化方法系统分析了椭偏仪的6种系统误差源和2种随机误差源对穆勒矩阵测量结果的影响,并以一个典型光刻投影物镜的穆勒光瞳为检测对象,进行了检测仿真。仿真结果验证了所提方法分析的准确性。
- 孟泽江李思坤王向朝王向朝戴凤钊步扬
- 关键词：成像系统光刻误差分析
- 基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法被引量：5
- 2015年
- 提出了一种基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法。将光源信息编码为粒子,利用图形误差作为评价函数,通过更新粒子的速度与位置信息不断迭代优化光源图形。对周期接触孔阵列和含有交叉门的复杂掩模图形的仿真验证表明,两者的图形误差分别降低了66.1%和27.3%,有效提高了光刻成像质量。与基于遗传算法的光源优化方法相比,该方法具有更快的收敛速度。另外,还研究了像差和离焦对本方法稳健性的影响。
- 王磊李思坤王向朝闫观勇杨朝兴
- 关键词：光学制造光刻分辨率增强技术粒子群优化
- 基于多染色体遗传算法的像素化光源掩模优化方法被引量：6
- 2016年
- 提出了一种基于多染色体遗传算法(GA)的像素化光源掩模优化(SMO)方法。该方法使用多染色体遗传算法,实现了像素化光源和像素化掩模的联合优化。与采用矩形掩模优化的单染色体GASMO方法相比,多染色体GASMO方法具有更高的优化自由度,可以获得更优的光刻成像质量和更快的优化收敛速度。典型逻辑图形的仿真实验表明,多染色体方法得到的最优光源和最优掩模的适应度值比单染色体方法小7.6%,提高了光刻成像质量。仿真实验还表明,多染色体方法仅需132代进化即可得到适应度值为5200的最优解,比单染色体方法少127代,加快了优化收敛速度。
- 杨朝兴李思坤王向朝
- 关键词：光学制造分辨率增强技术遗传算法
- 光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法
- 本发明公开了一种用于产生自由形式光刻机照明光源的光刻照明系统微反射镜阵列配置方法。该方法通过解卷积和量化处理得到产生目标自由形式光源所需的微反射镜阵列配置，提高了光刻照明系统获得自由形式照明光源的速度。
- 杨朝兴王向朝李思坤
- 文献传递
- 光刻投影物镜热像差的快速仿真方法
- 一种光刻投影物镜热像差快速仿真方法，分为镜片表面光强仿真、镜片温度分布仿真和热像差仿真三个过程。镜片表面光强仿真过程先设定照明方式和掩模图形等参数，然后仿真光瞳面光强分布，通过光瞳映射的方式得到镜片表面光强分布；镜片温度...
- 诸波尔李思坤王向朝步扬杨朝兴唐锋
- 光刻投影物镜的琼斯光瞳检测方法被引量：3
- 2019年
- 提出一种基于琼斯光瞳的光刻投影物镜偏振像差检测方法。推导了基于琼斯矩阵的检测方程,建立了光强矢量与琼斯矩阵克氏积的线性关系,利用该线性关系直接检测琼斯光瞳形式的偏振像差。以一个典型的光刻投影物镜的琼斯光瞳为检测对象对所提方法进行仿真验证,仿真中考虑了偏振元件与CCD的实际参数误差,并与传统穆勒矩阵椭偏法转换得到的琼斯光瞳进行比较。对于同一种典型的偏振元件旋转角组合,与传统测量方法相比,所提方法测量的偏振衰减和偏振相位延迟误差均明显降低。仿真结果表明,所提方法在不增加现有测量装置复杂度的基础上,明显提高了琼斯光瞳形式偏振像差的测量精度。
- 孟泽江李思坤王向朝王向朝杨朝兴
- 关键词：光刻
- 光刻机掩模的优化方法
- 一种光刻机掩模的优化方法，该方法利用离散余弦变换将基于像素表示的掩模信息转换到频域，截取低频部分作为优化变量并将其编码为粒子，将理想图形与当前掩模对应的光刻胶像每一点差异的平方和作为评价函数，通过粒子群优化算法优化掩模图...
- 王磊王向朝李思坤杨朝兴
- 文献传递
- 光刻机匹配方法
- 一种光刻机匹配方法，以三维空间像关键尺寸作为描述光刻机成像性能的参数，通过同步调谐光刻机的照明系统和投影物镜可调参数，利用阻尼最小二乘优化算法求解可调参数的值，实现光刻机快速匹配。本发明提高了现有方法的匹配精度，增大了工...
- 李思坤茅言杰王向朝杨朝兴
- 文献传递
- 光刻机照明系统的微反射镜阵列配置方法
- 本发明公开了一种用于产生自由形式光刻机照明光源的光刻照明系统微反射镜阵列配置方法。该方法通过解卷积和量化处理得到产生目标自由形式光源所需的微反射镜阵列配置，提高了光刻照明系统获得自由形式照明光源的速度。
- 杨朝兴王向朝李思坤
- 基于动态适应度函数的光源掩模优化方法被引量：6
- 2016年
- 提出了一种基于动态适应度函数的光刻机光源掩模优化方法(SMO)。动态适应度函数方法在遗传算法优化过程中采用动态适应度函数模拟真实光刻工艺条件误差对光刻结果的影响,得到对光刻工艺条件误差不敏感的优化光源和优化掩模。该方法无需优化权重系数,即可获得与权重优化后的加权适应度函数方法相近的工艺宽容度。典型逻辑图形的仿真实验表明,曝光剂量误差为15%时,动态适应度函数方法得到的优化光源和优化掩模的可用焦深达到200 nm,与加权适应度函数方法的优化效果相当。动态适应度函数方法也可用于降低SMO的优化光源和掩模对其他工艺条件误差如彗差的敏感度。
- 杨朝兴李思坤王向朝
- 关键词：光学设计光刻分辨率增强技术适应度函数
