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霍永恩

作品数：3 被引量：4H指数：1
供职机构：北京师范大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇缩醛
  • 2篇光产酸剂
  • 1篇乙烯基
  • 1篇乙烯基醚
  • 1篇松香
  • 1篇枞酸
  • 1篇烯基
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压印
  • 1篇抗蚀剂
  • 1篇海松
  • 1篇芳基
  • 1篇感光
  • 1篇感光成像
  • 1篇版材
  • 1篇丙烯
  • 1篇丙烯海松酸
  • 1篇成像
  • 1篇成像材料

机构

  • 3篇北京师范大学

作者

  • 3篇王力元
  • 3篇霍永恩
  • 1篇贾越

传媒

  • 1篇影像科学与光...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
芳香二酸酯缩醛聚合物、其合成方法及其用途
本发明涉及各种芳香二酸酯缩醛聚合物及其合成方法。各种芳香二酸和各种二乙烯基醚化合物在有机溶剂存在下加热反应得到新型的酯缩醛聚合物。此类聚合物易发生酸致分解反应，因此，由此类缩醛聚合物和光产酸剂等一起可组成新型正性感光成像...
王力元霍永恩
文献传递
不含芳基的松香二酸酯缩醛聚合物、其合成方法及其用途
本发明涉及一类不含芳基的松香二酸酯缩醛聚合物及其合成方法。松香二酸包括丙烯海松酸和枞酸二聚体。这两种二酸和各种脂肪二醇二乙烯基醚化合物在有机溶剂存在下加热反应得到新型的酯缩醛聚合物。此类聚合物易发生酸致分解反应，因此，由...
王力元霍永恩
文献传递
纳米压印抗蚀剂研究进展被引量：4
2008年
纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯(PM-MA)、有机硅改性的聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结.
霍永恩贾越王力元
关键词：纳米压印抗蚀剂成像
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