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张巧真

作品数:5 被引量:0H指数:0
供职机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电气工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇微波介质
  • 2篇氧化物
  • 2篇射频磁控
  • 2篇射频磁控溅射
  • 2篇退火
  • 2篇退火温度
  • 2篇微电子
  • 2篇稀土
  • 2篇稀土氧化物
  • 2篇刻蚀
  • 2篇刻蚀液
  • 2篇溅射
  • 2篇BAO
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇BNST
  • 1篇电性能
  • 1篇微波特性
  • 1篇介电
  • 1篇介电性

机构

  • 5篇电子科技大学

作者

  • 5篇张巧真
  • 4篇张继华
  • 3篇杨传仁
  • 3篇陈宏伟
  • 2篇赵强
  • 1篇王文君
  • 1篇秦超
  • 1篇赵强
  • 1篇张洪波

传媒

  • 2篇压电与声光

年份

  • 2篇2013
  • 3篇2012
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
高介微波介质薄膜研究
高介微波介质薄膜具有高的介电常数、低的介电损耗、高的耐压、低的漏电流、稳定的容值等特点,可用于MMIC(单片微波集成电路)电路中的微波/射频电容来替代外接的大电容旁路/退耦电容,以实现微波集成电路的全单片集成。本文使用射...
张巧真
关键词:工艺参数退火温度介电性能
文献传递
用于刻蚀微波介质薄膜的刻蚀液及制备方法
用于刻蚀微波介质薄膜的刻蚀液及制备方法,涉及微电子技术领域。本发明的刻蚀液以质量比计算,其组分为:HBF<Sub>4</Sub>∶HNO<Sub>3</Sub>∶H<Sub>2</Sub>O=1∶x∶5,其中0.5≤x≤...
杨传仁张巧真张继华陈宏伟赵强
BaO-Nd_2O_3-Sm_2O_3-TiO_2薄膜的微波特性
2013年
在制作完底电极的LaAlO3(100)衬底上,利用磁控溅射法制备了一层BaO-Nd2O3-Sm2O3-TiO2(BNST)系薄膜,再对薄膜进行退火处理。X线衍射仪(XRD)分析表明,经退火处理的BNST薄膜结晶效果良好。采用薄膜电容结构来实现电容的测量,主要研究了BNST薄膜电容的频率特性。阻抗分析测试和矢量网络分析测试表明,在测试频率为1MHz时,介电常数为58.3,介电损耗小于2%;在1GHz的测试频率下,介电常数为57.5,介电损耗小于3%。研究表明,制备的BNST薄膜的频率特性稳定,基本满足微波频率下使用的要求。
张洪波王文君秦超张巧真张继华
关键词:射频磁控溅射
退火温度对BNST薄膜结构和性能的影响
2012年
采用射频磁控溅射法在Pt/Ti/LaAlO3(100)衬底上制备了BaO-Nd2O3-Sm2O3-TiO2系(BNST)薄膜。研究了退火温度对BNST薄膜结构、表面形貌和介电性能的影响。X线衍射仪(XRD)分析表明,随着退火温度的升高,晶粒逐渐长大。经850℃退火处理的BNST薄膜具有很好的结晶质量。原子力显微镜(AFM)分析表明,在一定范围内提高退火温度所制备的薄膜晶粒致密、大小均匀。LCR测试分析表明,在测试频率为100kHz时,随着退火温度的升高,BNST薄膜介电常数有所增加,介电损耗则先降低,后增加。实验表明,经850℃退火处理,所制备的BNST薄膜的介电常数达37,介电损耗小于1.2‰。
张巧真张继华杨传仁陈宏伟赵强
关键词:射频磁控溅射退火温度
用于刻蚀微波介质薄膜的刻蚀液及制备方法
用于刻蚀微波介质薄膜的刻蚀液及制备方法,涉及微电子技术领域。本发明的刻蚀液以质量比计算,其组分为:HBF<Sub>4</Sub>∶HNO<Sub>3</Sub>∶H<Sub>2</Sub>O=1∶x∶5,其中0.5≤x≤...
杨传仁张巧真张继华陈宏伟赵强
文献传递
共1页<1>
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