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一种特定乙烯基含量聚硅氧烷的制备方法: 本发明涉及一种特定乙烯基含量聚硅氧烷的制备方法，其具体方法为：加入50～300mg除水后的六甲基环三硅氧烷单体和100～1000mg1，3，5‑三乙烯基‑1，3，5‑三甲基环三硅氧烷单体到5ml新蒸四氢呋喃溶剂中，加入1...; 孔杰周冬黄勇顾军渭; 文献传递

利用呼吸图案法制备聚(苯乙烯-b-丙烯腈)有序多孔薄膜被引量：3: 2013年; 以自制的聚(苯乙烯-b-丙烯腈)(PS-b-PAN)嵌段共聚物为成膜材料,采用呼吸图案法制备了有序多孔薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)对薄膜形貌进行了分析,研究了聚合物浓度、溶剂种类及共聚物结构对薄膜结构的影响.结果表明,薄膜表层为多孔结构,且孔为圆形、以六方阵列形式排列;薄膜表层下面是蜂窝状结构.以三氯甲烷(CHCl3)为溶剂时,在较高浓度下制备的薄膜表层孔间距较大,蜂窝结构尺寸较小,且形成了多层结构.与CHCl3为溶剂时相比,挥发速度较快的二硫化碳(CS2)作溶剂时制备的多孔薄膜有序性较好,薄膜表层孔径和孔间距均较大,蜂窝结构尺寸较小.以没有PAN链段的聚苯乙烯大分子引发剂(PS-Cl)为成膜材料时,制备的薄膜表层没有形成多孔结构,而是形成了窝状结构.同时,通过对薄膜表层晕的研究证明了多孔薄膜表层缺陷是由水滴处于液膜下较深的位置造成的.; 唐林马晓燕宋颖周冬; 关键词：聚苯乙烯嵌段共聚物多孔薄膜蜂窝结构

一种窄分子量分布聚硅氧烷的制备方法: 本发明涉及一种窄分子量分布聚硅氧烷的制备方法，其方法为通过改变1，3，5‑三乙烯基‑1，3，5‑三甲基环三硅氧烷(VD<Sub>3</Sub>)和阴离子引发剂的投料比，调整反应时间及反应温度，控制单体的转化率，结合阴离子...; 孔杰周冬凌君骆春佳于震黄勇; 文献传递

一种窄分子量分布聚硅氧烷的制备方法: 本发明涉及一种窄分子量分布聚硅氧烷的制备方法，其方法为通过改变1，3，5-三乙烯基-1，3，5-三甲基环三硅氧烷(VD<Sub>3</Sub>)和阴离子引发剂的投料比，调整反应时间及反应温度，控制单体的转化率，结合阴离子...; 孔杰周冬凌君骆春佳于震黄勇

共聚物的自组装研究进展: 2012年; 自组装是分子间通过非共价键相互作用自发组合形成的一类结构明确、稳定,同时具有某种特定功能或性能的分子聚集体或超分子结构的现象。利用共聚物自组装技术可以制备高度有序介观形貌的功能材料,这些材料有望在生物医学、药物释放、智能材料等领域得到广泛的应用。研究表明,不同结构的共聚物的自组装行为和功能一般不同,同时环境条件,如温度、pH值等也对共聚物自组装行为有很大影响。本文从共聚物结构及外部环境条件两个方面综述了近几年来共聚物的自组装行为规律,并分析了相关自组装结构应用的研究进展。; 周平马晓燕王罡周冬唐林; 关键词：自组装共聚物

一种特定乙烯基含量聚硅氧烷的制备方法: 本发明涉及一种特定乙烯基含量聚硅氧烷的制备方法，其具体方法为：加入50～300mg除水后的六甲基环三硅氧烷单体和100～1000mg1，3，5-三乙烯基-1，3，5-三甲基环三硅氧烷单体到5ml新蒸四氢呋喃溶剂中，加入1...; 孔杰周冬黄勇顾军渭; 文献传递

特定乙烯基和硅氢键含量聚硅氧烷的可控制备被引量：1: 2014年; 以1,3,5-三乙烯基-1,3,5-三甲基环三硅氧烷与六甲基环三硅氧烷为共聚单体,四氢呋喃为溶剂,在正丁基锂引发条件下实现可控阴离子开环共聚,制备特定乙烯基含量的聚硅氧烷;同时,以1,3,5,7-四甲基环四硅氧烷与六甲基环三硅氧烷为共聚单体,四氢呋喃为溶剂,在浓硫酸引发条件下实现可控阳离子开环共聚,制备特定硅氢键含量的聚硅氧烷,为制备具有特定乙烯基和硅氢键含量聚硅氧烷国防专用标准物质奠定了基础。; 周冬于震孔杰; 关键词：聚硅氧烷阴离子开环聚合阳离子开环聚合标准物质

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周冬