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路胜博

作品数:5 被引量:3H指数:1
供职机构:电子科技大学微电子与固体电子学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇荧光
  • 2篇荧光分析仪
  • 2篇铁电
  • 2篇铁电薄膜
  • 2篇无标样
  • 2篇膜厚
  • 2篇基片
  • 2篇方程组
  • 2篇分析仪
  • 2篇薄膜厚度
  • 2篇标样
  • 1篇倒易空间
  • 1篇电畴
  • 1篇摇摆曲线
  • 1篇射线衍射
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇微结构
  • 1篇临界电流
  • 1篇临界电流密度

机构

  • 5篇电子科技大学
  • 1篇四川大学

作者

  • 5篇路胜博
  • 3篇邹春梅
  • 3篇左长明
  • 1篇吴家刚
  • 1篇姬洪
  • 1篇肖定全
  • 1篇朱基亮
  • 1篇王志红
  • 1篇黄惠东
  • 1篇催旭梅

传媒

  • 1篇材料导报
  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 2篇2007
  • 3篇2006
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
铁电薄膜应力的X射线衍射表征与研究
铁电块材因其具有可将电信号、机械信号和热信号之间相互转换的特征而在通信、导航、精密测量、信息存储等领域得到广泛的应用。但是这些铁电块材器件往往由于相对较大的尺度、较低的断裂韧性和较小的应变而使其应用受到限制。随着微电子技...
路胜博
关键词:铁电薄膜残余应力X射线衍射
文献传递
无标样测量薄膜厚度和密度的方法
无标样测量薄膜厚度和密度的方法,属于材料分析技术领域。利用X射线以小角度方式入射待测薄膜样品,当入射X射线的有效穿透深度t小于薄膜厚度d时,利用X射线荧光分析仪检测薄膜元素所激发的X射线荧光的相对强度I<Sub>F</S...
左长明路胜博邹春梅
文献传递
无标样测量薄膜厚度和密度的方法
无标样测量薄膜厚度和密度的方法,属于材料分析技术领域。利用X射线以小角度方式入射待测薄膜样品,当入射X射线的有效穿透深度t小于薄膜厚度d时,利用X射线荧光分析仪检测薄膜元素所激发的X射线荧光的相对强度I<Sub>F</S...
左长明路胜博邹春梅
文献传递
薄膜厚度对YBCO超导薄膜微结构及临界电流密度的影响被引量:2
2007年
用MOD方法在LAO基片上沉积不同厚度的YBCO薄膜。用X射线衍射仪对这一系列样品进行表征分析,研究随着薄膜厚度的增加微结构的变化及临界电流密度的变化。X射线衍射分析发现YBCO薄膜取向度随薄膜厚度的增加,在800nm时取得最佳值之后又随厚度增加由强变弱。晶格常数c随着膜厚的增加而增大。本研究对这一系列样品进行了扫描分析和摇摆曲线半高宽的计算,并对800nm的YBCO薄膜做了倒易空间图谱分析,实验结果发现800nm的YBCO薄膜晶化比较好。本研究还分析了薄膜厚度对YBCO薄膜临界电流密度的影响。
邹春梅左长明路胜博催旭梅姬洪
关键词:YBCO薄膜微结构倒易空间临界电流密度摇摆曲线
退火温度对PLT铁电薄膜微结构和电畴的影响
2006年
常温下采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基片上淀积(Pb0.9La0.1)TiO3薄膜,分别在550℃、570℃、600℃、630℃退火1h。采用X射线衍射、原子力显微镜和压电响应力显微镜检测不同退火温度的薄膜,讨论退火温度对薄膜结构、表面形貌和电畴结构的影响。结果表明:随着退火温度的升高,薄膜中钙钛矿相的含量增多,表面粗糙度和颗粒尺寸不断增大,薄膜从无畴状态变为以90°畴为主的多畴,而在退火升降温过程中,由于应力的影响,面外畴更多为取向向下的负畴。
黄惠东王志红路胜博吴家刚朱基亮肖定全
关键词:PLT铁电薄膜XRDPFM
共1页<1>
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