杨雄
- 作品数：2 被引量：7H指数：1
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 极紫外投影光刻物镜设计被引量：7
- 2009年
- 极紫外投影光刻用14 nm波长的电磁辐射,可以在实现高分辨率的同时保持相对较大的焦深,有希望成为制造超大规模集成电路的下一代光刻技术。极紫外投影光刻工作于步进扫描方式,采用全反射、无遮拦、缩小的环形视场投影系统。无遮拦投影系统的初始结构设计困难且重要。介绍了一种近轴搜索方法,该方法引入了像方远心、物方准远心、固定放大率、Petzval条件和物像共轭关系等约束,通过计算确定第一面反射镜、最后一面反射镜、光阑所在反射镜的曲率,以及物距和像距。编写了近轴搜索程序,搜索出初始结构。从初始结构出发,优化得到两套物镜,一套由四反射镜组成的系统,数值孔径0.1,像方视场26 mm×1 mm,畸变10 nm,分辨率优于6000 cycle/mm。一套系统由六反射镜组成,数值孔径0.25,像方视场26 mm×1 mm,畸变3 nm,分辨率优于18 000 cycle/mm。
- 杨雄邢廷文
- 关键词：光学设计物镜光刻极紫外
- 大数值孔径下的偏振成像分析
- 2011年
- 光刻设备的分辨率越来越高,以满足集成电路特征尺寸不断缩小的要求。根据瑞利判据,可以通过缩小曝光波长和工艺因子、增大数值孔径来提升光学投影光刻的分辨率。随着数值孔径的增加,光的偏振特性对成像的影响越来越大。通过分析偏振光的成像特性,控制照明的偏振方向,可以延伸光刻的分辨率。运用光的干涉原理分析了偏振光影响成像质量的原因,结合阿贝成像原理与偏振的矢量特性对偏振光的成像进行了仿真,比较了不同偏振照明下的成像对比度及焦深。结果表明,对图形选取相应的偏振照明,可以改善成像质量。
- 刘勇刘勇邢廷文
- 关键词：大数值孔径光刻
