李俊峰
- 作品数：29 被引量：103H指数：6
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划中国科学院知识创新工程领域前沿项目中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
- 相关领域：机械工程电子电信自动化与计算机技术化学工程更多>>
- 四根测杆定位离轴非球面镜与零位补偿器相对位置的方法
- 四根测杆定位离轴非球面镜与零位补偿器相对位置的方法，属于光学检测技术领域中涉及的方法。要解决的技术问题：提供一种四根测杆定位离轴非球面镜与零位补偿器相对位置的方法。解决的技术方案：第一步，搭建检测装置，第二步，选取四根测...
- 宋淑梅宣斌张红王朋李俊峰陈晓苹
- 文献传递
- 大口径光学元件五自由度抛光机械手的设计被引量：2
- 2010年
- 多模式组合抛光大口径光学元件是提高加工效率和加工精度的有效方法。作为加工系统的重要组成部分,抛光机械手的设计是实现多模式加工的关键。分析了多模式加工的主要运动方式,提出了对抛光机械手的具体要求。设计了一种5自由度抛光机械手,介绍了其主要结构。由D-H法建立了机械手的坐标系,推导出其位姿方程并求得逆解,为后续控制系统的设计奠定了基础。
- 王朋李俊峰宣斌陈晓苹宋淑梅谢京江
- 关键词：大口径光学元件多模式抛光机械手
- 大口径光学元件的机械手抛光被引量：11
- 2010年
- 为满足大口径光学元件多模式组合加工技术(MCM)的需要,研制了JP-01型数控抛光机械手。该机械手采用柱坐标结构,ρ-θ极坐标运动方式,ρ、θ两轴联动完成MCM加工所需各种运动。运用齐次坐标变换理论和Preston方程,在分析机械手抛光过程中工件表面上任意一点的相对速度、压强及抛光时间的基础上,建立了机械手抛光的材料去除数学模型,同时求解了JP-01型机械手的位姿转换矩阵。运用所建立的数学模型对MCM加工中修正环带误差和局部误差时单个抛光盘常用运动模式的材料去除特性进行了计算机模拟。应用JP-01型机械手对一口径为240 mm,F数为1.5的球面反射镜进行了确定性抛光实验,最终面形精度达到14.6 nm(RMS)。实验表明,所测得数据与理论分析数据吻合,建立的数学模型能真实反映材料去除分布特性,可以指导抛光实现确定性加工,JP-01型机械手能够提供MCM加工所需运动形式。
- 王朋陈亚宣斌李俊峰陈晓苹宋淑梅谢京江
- 关键词：大口径光学元件机械手
- 一种离轴非球面光学冷加工机床
- 一种离轴非球面光学冷加工机床，属于光学冷加工技术领域中涉及的机床。解决的技术问题：提供一种离轴非球面光学冷加工机床。技术方案包括下模曲柄盘、下模连杆、下模摆杆、离轴非球面光学元件、下模主轴、下模工作台、抛光磨盘、上模摆臂...
- 宋淑梅王朋李俊峰宣斌陈亚陈晓苹
- 文献传递
- 用分子着色剂检测玻璃微裂纹的方法
- 本发明用分子着色剂检测玻璃微裂纹的方法，属于光学冷加工技术领域中实时检测方法。在玻璃毛坯进行粗加工后，为了应力释放放置数十小时，再对其进行表面酸腐蚀，然后涂抹分子着色剂，放置数分钟，利用玻璃本身对水溶液的亲和性和着色剂的...
- 张红陈晓苹李俊峰王朋宣斌
- 文献传递
- 一种离轴非球面光学冷加工机床
- 一种离轴非球面光学冷加工机床，属于光学冷加工技术领域中涉及的机床。解决的技术问题：提供一种离轴非球面光学冷加工机床。技术方案包括下模曲柄盘、下模连杆、下模摆杆、离轴非球面光学元件、下模主轴、下模工作台、抛光磨盘、上模摆臂...
- 宋淑梅王朋李俊峰宣斌陈亚陈晓苹
- 文献传递
- 一种离轴抛物面反射镜几何参数的检测标定方法
- 本发明提供了一种离轴抛物面反射镜几何参数的检测和标定方法，属于光学检测技术领域，可以解决离轴抛物面反射镜几何参数难以高精度测量和标定问题，实现其几何参数的低成本、高精度快速检测和标定。
- 李俊峰谢京江宋淑梅陈亚宣斌张红
- 文献传递
- 离轴抛物镜光轴方向的标定方法及系统
- 本发明公开了一种离轴抛物镜光轴方向的标定方法，包括以下步骤：调整干涉仪、离轴抛物镜、标准平面镜的相对位置，进行离轴抛物镜自准直干涉检验，使干涉仪焦点与标准平面镜镜面位于同一平面上；在离轴抛物镜几何中心做第一标记，在干涉条...
- 宣斌康健李俊峰陈亚宋淑梅谢京江
- 对筒形光学元件进行面形精度修正和超光滑加工的抛光装置及方法
- 本发明提供一种对筒形光学元件进行面形精度修正和超光滑加工的抛光装置及方法，该抛光装置改进了现有技术无法修正元件面形精度以及只能采用单一加工方式的缺陷，可以根据实际需要在直接接触加工和准接触加工之间进行方式切换，且通过四轴...
- 陈亚康健谢京江宋淑梅宣斌李俊峰
- 文献传递
- 环带抛光技术材料去除理论模型研究被引量：2
- 2009年
- 为了完善环带抛光技术并指导加工,根据Preston方程建立了材料去除量的理论模型。考虑环带抛光技术中的影响因素,如抛光盘与工件之间的转速比、偏心距及压强分布等参数,建立了材料去除量与各影响因素之间相互关系的数学模型。理论分析和实验结果显示,转速比、偏心距和压强分布对磨削量均有影响,材料的去除效率随转速比和偏心距增加而增大,转速比越接近于1,磨削越均匀;工件露边时,工件露出部分材料的去除效率急剧下降。实验结果表明,通过对该理论模型中相关技术参数的研究来完善环带抛光技术,有效地提高了抛光的效率及稳定性。
- 李俊峰陈亚宣斌王朋陈晓苹宋淑梅
- 关键词：偏心距
