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王忠坦

作品数:9 被引量:0H指数:0
供职机构:上海理工大学更多>>
发文基金:国家重大科学仪器设备开发专项国家自然科学基金国家科技支撑计划更多>>
相关领域:电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 8篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇光栅
  • 2篇多孔薄膜
  • 2篇阳极
  • 2篇阳极氧化
  • 2篇氧化锌薄膜
  • 2篇杀菌
  • 2篇杀菌装置
  • 2篇杀灭
  • 2篇闪耀光栅
  • 2篇热氧化
  • 2篇马弗炉
  • 2篇金属
  • 2篇晶态
  • 2篇刻划
  • 2篇空气环境
  • 2篇扩孔
  • 2篇基片
  • 2篇非晶
  • 2篇非晶态
  • 2篇分度机构

机构

  • 9篇上海理工大学

作者

  • 9篇黄元申
  • 9篇王忠坦
  • 7篇张大伟
  • 5篇洪瑞金
  • 4篇倪争技
  • 3篇徐邦联
  • 3篇王琦
  • 3篇丁卫涛
  • 2篇盛斌
  • 2篇庄松林
  • 2篇李柏承
  • 2篇黄运柏
  • 2篇周瑶
  • 2篇韩姗
  • 1篇陶春先
  • 1篇周星屹

传媒

  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 5篇2013
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法
本发明涉及薄膜技术。一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法,包括一基片,采用基片表面作为基底层,在基底层镀上一层均匀金属锌膜层,金属锌薄膜在空气环境中通过热氧化处理,即得到氧化锌薄膜。将制备好的金属锌薄膜置于马弗炉中,在空气...
洪瑞金倪争技王忠坦周瑶盛斌黄元申
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一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法
本发明涉及薄膜技术。一种制备非晶态透明氧化锌薄膜的方法,包括一基片,采用基片表面作为基底层,在基底层镀上一层均匀金属锌膜层,金属锌薄膜在空气环境中通过热氧化处理,即得到氧化锌薄膜。将制备好的金属锌薄膜置于马弗炉中,在空气...
洪瑞金倪争技王忠坦周瑶盛斌黄元申
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一种杀菌装置及其多孔复合板的制备方法
本发明提供一种杀菌装置及其多孔复合板的制备方法,杀菌装置特征在于,具有:静电场部,包括金属板和与多孔复合板,金属板与多孔复合板相对而设,金属板与电源部的负极连接,多孔复合板由多孔层和金属基底层层叠而成,金属基底层连接正极...
张大伟王忠坦黄元申王琦洪瑞金
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凹面闪耀光栅的刻划制作方法
凹面闪耀光栅的刻划制作方法,包括步骤:提供曲面半径为r的球形凹面基片,将基片固定安装在能够进行横向分度运动的工作台上;提供在竖直方向上能够进行分度运动的刻划机构,刻划机构包含有刻刀。通过刻划机构的竖向分度运动来定位刻刀的...
黄元申丁卫涛脱文刚张大伟韩姗李柏承徐邦联王忠坦黄运柏
一种偏振无关窄带彩色滤光片及制作方法
本发明涉及一种偏振无关窄带彩色滤光片及制作方法,从下到上包括基底层、两层薄膜层和一层光栅层,基底层为玻璃,两层薄膜层分别为透明导电膜和二氧化铪膜,最上面的光栅层为交替变化的光刻胶和入射介质。所述的彩色滤光片只需通过调节光...
徐邦联黄元申王忠坦张大伟倪争技王琦陶春先庄松林
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一种杀菌装置及其多孔复合板的制备方法
本发明提供一种杀菌装置及其多孔复合板的制备方法,杀菌装置特征在于,具有:静电场部,包括金属板和与多孔复合板,金属板与多孔复合板相对而设,金属板与电源部的负极连接,多孔复合板由多孔层和金属基底层层叠而成,金属基底层连接正极...
张大伟王忠坦黄元申王琦洪瑞金
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隔离式温控系统
本实用新型公开了一种能够为精密仪器提供精确温度控制的隔离式温控系统。该隔离式温控系统包括用于防尘和隔热的外层防护罩、带有微结构小孔的内层防护罩、测温装置、制冷装置、加热装置以及控制装置。因为该隔离式温控系统采用了外层防护...
丁卫涛黄元申王忠坦张大伟庄松林周星屹
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凹面闪耀光栅的刻划制作方法
凹面闪耀光栅的刻划制作方法,包括步骤:提供曲面半径为r的球形凹面基片,将基片固定安装在能够进行横向分度运动的工作台上;提供在竖直方向上能够进行分度运动的刻划机构,刻划机构包含有刻刀。通过刻划机构的竖向分度运动来定位刻刀的...
黄元申丁卫涛脱文刚张大伟韩姗李柏承徐邦联王忠坦黄运柏
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光栅刻划中工作台过冲现象的改善
2013年
在分度运动控制系统中以DMC2210控制卡为核心,采用光栅尺为分度运动反馈器件,实现了高精度的实时监测反馈。针对工作台"过冲"现象进行了两方面的分析优化:一方面,分析了步进电机减速方式对刻划效果的影响,通过分段减速初步改善了工作台"过冲"现象;另一方面,分析并模拟了弹簧(联接工作台和分度丝杠螺母)刚度对工作台"过冲"问题的影响,更换大刚度弹簧后,很大程度改善了工作台"过冲"现象。改进后对光栅刻线密度为79 g/mm的中阶梯光栅进行了多次刻划试验,计算的机器分度精度均在5 nm以内,选取其中一组较好的数据(机器分度精度为2.887 nm)与之前多次刻划试验中较好的一组数据(机器分度精度为7.759 nm)进行了比较,结果表明刻划机分度精度得到很大的提高。
王忠坦倪争技洪瑞金黄元申张大伟
关键词:光栅尺过冲弹簧刚度分度精度
共1页<1>
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