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石健

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：贵州大学理学院更多>>
发文基金：贵州省科技计划项目更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇透过率
  • 1篇结构和光学性...
  • 1篇光学
  • 1篇光学薄膜
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性质
  • 1篇TA
  • 1篇TA2O5
  • 1篇衬底
  • 1篇衬底温度

机构

  • 1篇贵州大学

作者

  • 1篇李绪诚
  • 1篇邓朝勇
  • 1篇杨利忠
  • 1篇马亚林
  • 1篇石健

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
衬底温度对Ta_2O_5薄膜结构和光学性质的影响被引量：1
2013年
采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备Ta2O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度为450℃时,薄膜开始结晶。低于450℃,薄膜为无定形态,光学透过率随着衬底温度的升高而升高,在可见光区域最大透过率为85%。薄膜结晶生成晶粒,会对通过的光束产生散射,降低透过率,光学性能下降。这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构、结晶转变温度及光学性质密切相关。
马亚林石健李绪诚杨利忠邓朝勇
关键词：TA2O5光学薄膜透过率
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