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于小河

作品数:9 被引量:6H指数:1
供职机构:四川大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 4篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇理学

主题

  • 5篇微球
  • 4篇碳化硼
  • 3篇电子束蒸发
  • 2篇滴定管
  • 2篇电子束
  • 2篇氧化铒
  • 2篇蒸发设备
  • 2篇素坯
  • 2篇球面
  • 2篇微米
  • 2篇微米级
  • 2篇系杆
  • 2篇固相含量
  • 2篇靶丸
  • 2篇衬底
  • 2篇衬底温度
  • 1篇增殖剂
  • 1篇蒸发制备
  • 1篇显微结构
  • 1篇空心微球

机构

  • 9篇四川大学
  • 2篇中国科学院

作者

  • 9篇于小河
  • 8篇卢铁城
  • 6篇廖志君
  • 4篇伍登学
  • 4篇陶勇
  • 4篇林涛
  • 4篇王自磊
  • 2篇林涛
  • 2篇杨茂
  • 2篇黄章益
  • 2篇苏明甫
  • 1篇马奔原

传媒

  • 3篇四川大学学报...
  • 1篇无机材料学报

年份

  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
电子束蒸发沉积制备碳化硼薄膜的化学结构研究被引量:1
2014年
采用了电子束蒸发在Si(100)片沉积了碳化硼(B4C)薄膜,并用傅里叶变换衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)对薄膜样品组分和结构进行分析,以研究在不同基片温度和束流下对薄膜结构的影响.分析表明:薄膜中均含有1170cm-1,1660cm-1两个特征峰,分别对应于碳化硼中正二十面体和三原子链的结构.不同基片温度对薄膜化学结构无影响;而不同束流,形成的结构不同,主要体现在碳化硼的特征结构(三原子链和正二十面体)的形成,随着束流的增大,薄膜中二十面体结构显著增多,B的流失减少.
苏明甫廖志君谢兰东于小河林涛伍登学卢铁城
关键词:化学结构基片温度
氚增殖剂正硅酸锂陶瓷小球制备新方法研究
氚增殖剂正硅酸锂陶瓷小球制备新方法研究
于小河
电子束蒸发制备碳化硼球面涂层的表面氧化研究
2013年
利用电子束蒸发技术沉积制备了碳化硼微球涂层,将微球涂层依次经退火和稀硫酸腐蚀处理后得到碳化硼空心微球,并借助XRD和SEM对碳化硼微球涂层的表面氧化问题进行了研究.XRD结果显示当衬底温度在120℃附近时,碳化硼涂层部分被晶化;对退火前后和酸腐蚀后的微球涂层进行SEM分析,结果表明,退火前的涂层表面部分被氧化成B2O3,退火后B2O3覆盖在涂层表面,酸腐蚀可以去掉B2O3,得到表面光洁的碳化硼空心微球.
林涛卢铁城于小河苏明甫马奔原廖志君
关键词:电子束蒸发显微结构
碳化硼球面薄膜及空心微球的制备被引量:5
2012年
采用电子束蒸发镀膜技术,结合磁控滚动方法在φ1 mm的钢球基底上制备碳化硼球面膜层,通过退火、打孔及腐蚀获得碳化硼空心微球.主要研究了球面膜层的宏观形貌、微观结构、成分及初步探讨了不同退火温度(800~1100℃)对核膜结构空心化的影响.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱分析(XPS)、原子力显微镜(AFM)对球面薄膜表面形态和薄膜元素组成进行了分析.结果表明:磁控滚动模式制备的球面膜层表面平整,没有裂纹和孔洞,元素分布均匀.核膜结构(镀膜时间在5~70 h)经900℃以上温度退火,空心化后的球面膜层可实现自支撑,900℃退火的微球表面形貌最好,壁厚可达10μm以上.
于小河卢铁城林涛王自磊陶勇廖志君
微球薄膜制备装置与真空蒸发技术制备碳化硼微球薄膜和靶丸的方法
一种磁吸附微球薄膜制备装置,包括电机、系杆、固定盘、磁体和筛网。一种制备微球碳化硼薄膜的方法,使用安装有上述磁吸附微球薄膜制备装置的电子束蒸发设备,步骤为:(1)将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中,将铁磁性微球形衬底...
廖志君林涛于小河王自磊陶勇卢铁城伍登学
一种微米级高密度氧化铒微球及其制备方法
本发明提供了一种微米级高密度氧化铒微球,其粒径为50~150μm,其密度≥氧化铒粉体理论密度的88%。其制备方法为:(1)将预混液和氧化铒粉体球磨至氧化铒粉体均匀分散在预混液中,加入过硫酸铵水溶液,得到固相含量为50~6...
卢铁城于小河杨茂黄章益向晓刚
文献传递
跳动及滚动激励制备的碳化硼涂层表面形貌的对比被引量:1
2011年
利用电子束蒸发技术蒸发碳化硼,通过弹跳激励和滚动激励两种方案来随机滚动小球,从而分别在玻璃和钢球心轴上制备了碳化硼涂层.采用扫描电子显微镜对涂层表面形貌进行了分析.同采用弹跳激励制备的涂层相比,在用滚动激励制备的涂层表面不存在裂纹和微粒脱落现象,其微粒生长的更大,相互接合的更致密.经对比证明,在制备碳化硼涂层上,滚动激励装置优于跳动激励装置.
王自磊廖志君陶勇于小河林涛伍登学卢铁城
关键词:电子束蒸发
微球薄膜制备装置与真空蒸发技术制备碳化硼微球薄膜和靶丸的方法
一种磁吸附微球薄膜制备装置,包括电机、系杆、固定盘、磁体和筛网。一种制备微球碳化硼薄膜的方法,使用安装有上述磁吸附微球薄膜制备装置的电子束蒸发设备,步骤为:(1)将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中,将铁磁性微球形衬底...
廖志君林涛于小河王自磊陶勇卢铁城伍登学
文献传递
一种微米级高密度氧化铒微球及其制备方法
本发明提供了一种微米级高密度氧化铒微球,其粒径为50~150μm,其密度≥氧化铒粉体理论密度的88%。其制备方法为:(1)将预混液和氧化铒粉体球磨至氧化铒粉体均匀分散在预混液中,加入过硫酸铵水溶液,得到固相含量为50~6...
卢铁城于小河杨茂黄章益向晓刚
文献传递
共1页<1>
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