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李志炜

作品数：29 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 27篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 9篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 7篇刻蚀
  • 7篇光学
  • 6篇紫外光固化
  • 6篇纳米
  • 6篇光固化
  • 5篇微结构
  • 4篇衍射
  • 4篇衍射透镜
  • 4篇透镜
  • 4篇巯基
  • 4篇烯烃
  • 4篇烯烃单体
  • 4篇纳米压印
  • 4篇均匀性
  • 4篇工装
  • 4篇大口径
  • 3篇等离子体
  • 3篇压印
  • 3篇离子刻蚀
  • 3篇基底

机构

  • 29篇中国科学院
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇兰州理工大学
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 29篇李志炜
  • 15篇雷柏平
  • 12篇范斌
  • 10篇边疆
  • 8篇汪利华
  • 7篇胡松
  • 7篇张满
  • 7篇刘鑫
  • 6篇杜俊峰
  • 5篇邓启凌
  • 4篇杨勇
  • 4篇吴时彬
  • 4篇邱传凯
  • 3篇史立芳
  • 3篇曹阿秀
  • 2篇夏良平
  • 2篇杜春雷
  • 2篇尹韶云
  • 1篇张景文
  • 1篇汉语

传媒

  • 1篇激光技术
  • 1篇光电工程

年份

  • 2篇2023
  • 6篇2021
  • 7篇2020
  • 5篇2019
  • 3篇2016
  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 3篇2013
共 29 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装
本发明涉及一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装，解决了大口径带框薄膜透镜无法通过反应离子刻蚀将光刻胶微结构均匀地传递到薄膜基底上的问题。本发明提供的大口径薄膜衍射透镜微结构传递方法，在传统单频容性耦合大口径反应...
李志炜邵俊铭巩畅畅蒋青峰高国涵汪利华石恒雷柏平边疆范斌
一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法
本发明公开一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法，计算出加工前后波像差变化量。在被测镜上任意位置作三个标记，加工前后检测波像差，两次检测的波像差上找出三个标记没有数据的区域，计算出中心点的位置坐标，这三个点坐标...
罗倩李志炜邵俊铭吴时彬
一种基于三维光刻胶掩膜快速修正光学基底均匀性的方法
本发明提供了一种基于三维光刻胶掩膜快速修正光学基底均匀性的方法。包括：三维光刻胶掩膜制作和均匀刻蚀减薄。工作流程为第一步首先进行光学基底初始均匀性测试，然后在光学基底表面完成光刻胶涂层厚度分布测试，接着进行光刻去除量分布...
高国涵李志炜雷柏平杜俊峰边疆吴时彬汪利华石恒
文献传递
一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法
本发明涉及一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法，包括如下步骤：1）对表面含有浮雕纳米结构的纳米压印模板进行表面防粘处理；2）对一块刚性基片进行偶联处理；3）在步骤2）中经过偶联处理的刚性基片上涂覆一层巯基-烯材料；...
邓启凌张满史立芳胡松曹阿秀秦燕云李志炜
文献传递
一种柔性紫外光压印复合模板及其制备方法
本发明提供一种柔性紫外光压印复合模板及其制备方法，所述复合模板为三层结构，包括柔性支撑层，中间层以及刚性结构层。所述柔性支撑层为低弹性模量高分子衬底；所述中间层为多官能度有机巯基单体与烯烃单体混合物紫外光固化交联物；所述...
李志炜张满杨勇胡松邱传凯
文献传递
一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法
本发明公开了一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，解决了传统光学加工技术无法直接抛光新型柔性光学薄膜的问题。本发明提供的基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，可以在不影响薄膜光学性能的情况下，快速高效地对...
李志炜邵俊铭雷柏平范斌罗倩高国涵邓晓东毛丹波何一苇蒋仁奎
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一种基于进气分布控制的等离子体密度分布调控方法
本发明提供一种基于进气分布控制的等离子体密度分布调控方法，利用对等离子体放电密度分布的实时监测反馈，对进气气流分布进行即时调控，从而调控等离子体密度分布乃至等离子体放电状态。该发明可以实时、精确调控等离子体放电状态，获得...
李志炜范斌雷柏平邵俊铭罗倩刘盾高国涵辛强刘海涛毛羽丰
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一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装
本发明涉及一种大口径薄膜衍射透镜微结构刻蚀传递方法及工装，解决了大口径带框薄膜透镜无法通过反应离子刻蚀将光刻胶微结构均匀地传递到薄膜基底上的问题。本发明提供的大口径薄膜衍射透镜微结构传递方法，在传统单频容性耦合大口径反应...
李志炜邵俊铭巩畅畅蒋青峰高国涵汪利华石恒雷柏平边疆范斌
一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的计算方法
本发明公开一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法，计算出加工前后波像差变化量。在被测镜上任意位置作三个标记，加工前后检测波像差，两次检测的波像差上找出三个标记没有数据的区域，计算出中心点的位置坐标，这三个点坐标...
罗倩李志炜邵俊铭吴时彬
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一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置
本发明提供了一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置，包括真空泵、机架、挡板阀、支撑台限位器、真空腔体、掩膜支撑台、放气阀、真空计、顶压机构、密封门开合机构、密封门、薄膜支架、柔性薄膜、密封垫、光刻掩膜版。其中掩膜支...
高国涵范斌李志炜雷柏平边疆刘鑫
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