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朱旗

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:电子科技大学微电子与固体电子学院微电子科学与工程系更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇晶体管
  • 2篇砷化镓
  • 2篇场效应
  • 2篇场效应晶体管
  • 1篇倒相
  • 1篇倒相器
  • 1篇电子迁移率
  • 1篇调制
  • 1篇调制掺杂
  • 1篇调制掺杂场效...
  • 1篇直流特性
  • 1篇迁移率
  • 1篇微波
  • 1篇高电子迁移率
  • 1篇高电子迁移率...
  • 1篇GAAS/A...
  • 1篇MODFET
  • 1篇掺杂
  • 1篇GAAS

机构

  • 4篇电子科技大学
  • 1篇河北半导体研...
  • 1篇电子工业部

作者

  • 4篇朱旗
  • 1篇冯国进
  • 1篇王长河

传媒

  • 3篇电子科技大学...
  • 1篇电子学报

年份

  • 2篇1990
  • 2篇1989
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
調制摻杂場效应晶体管的研制与測試被引量:1
1989年
对(Al,Ga)As/GaAs调制掺杂场效应晶体管MODFET进行了设计、研制与测试。利用国产分子束外延系统(MBE)获得的異质结材料,采用尚未报导的部分工艺,同时研制成功耗尽型、增强型的MODFET、直流跨导典型值在90-135mS/mm。对耗尽型MODFET进行了微波测试。在4GHz下,最小噪声系数为2.49dB,最大功率增益为10.2dB,在国内尚未见到类似报导。
朱旗
关键词:场效应晶体管砷化镓
E/D型MODFET直接耦合倒相器的研制
1990年
本文对 E/D 型 MODFET 直接耦合倒相器进行了设计与研制。利用国产分子束外延设备制备的 Al_xGa_(1-x)As/Ga As 调制掺杂外延材料,采用常规化合物半导体工艺,获得了具有正常逻辑输出功能的 MODFET 直接耦合倒相器。这对国内开展 MODFET 数字电路的研究与开发具有实际意义。
朱旗冯国进
关键词:MODFET倒相器砷化镓
调制掺杂场效应晶体管的直流特性
1990年
对调制掺杂场效应晶体管的栅控特性进行了研究。考虑费米能级随二维电子气浓度的变化,计算了器件的直流特性。计算结果包括在阈值电压附近以及非饱和区,与实验结果吻合较佳。
朱旗
关键词:场效应晶体管调制掺杂直流特性
微波GaAs/AlGaAs高电子迁移率晶体管被引量:1
1989年
采用国产分子束外延设备及国内外尚未报导的部分工艺,试制出具有微波特性的高电子迁移率品体管,其跨导80~135mS/mm,在4GHz下,最小噪声系数2.49dB,最大功率增益10.2dB。
朱旗王长河
关键词:电子迁移率晶体管微波GAAS
共1页<1>
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