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何芳芳

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:南华大学更多>>
发文基金:湖南省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇
  • 3篇SALOPH...
  • 2篇印迹聚合物
  • 2篇制备及性能
  • 2篇TH
  • 2篇磁性
  • 1篇性能研究
  • 1篇自组装
  • 1篇离子
  • 1篇离子印迹聚合...
  • 1篇核能
  • 1篇IV

机构

  • 4篇南华大学

作者

  • 4篇何芳芳
  • 2篇王榆元
  • 2篇王宏青
  • 2篇张海生
  • 1篇程治强
  • 1篇李虹霖
  • 1篇杨诗晴

传媒

  • 2篇南华大学学报...

年份

  • 3篇2012
  • 1篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
磁性Salophen Th(IV)识别材料的制备及性能
当今世界面临着众多的问题,能源紧缺就是其中的重中之重。钍作为最有潜能替代铀的核能元素,未来将成为主要的核能元素。但是由于其具有的对人体和环境有巨大的伤害的放射性和毒性,所以对环境中钍(IV)的提取与监测已成为必要。离子印...
何芳芳
新型自组装材料的制备及其对钍的识别研究
2010年
以钍(Ⅳ)为模板离子,制备了基于硅胶表面修饰的离子印迹聚合物.采用傅立叶变换红外光谱和N2吸附-脱附对其进行了结构表征.通过静态分析和动态分析系统研究了印迹聚合物对钍(Ⅳ)的吸附行为及选择性,结果表明该印迹材料对钍(Ⅳ)的等温吸附线属于Langmuir吸附模型.与非印迹聚合物相比,离子印迹聚合物对钍(Ⅳ)离子有较好的选择识别能力,模板离子钍(Ⅳ)相对竞争离子铀(Ⅵ)、镧(Ⅲ)和铈(Ⅲ)的选择系数分别是50.8,78.3和82.6.并且吸附速率快,10 min即达到吸附平衡,最大吸附容量为56.8 mg/g,可望在分离富集领域获得实际应用.
程治强王宏青王榆元何芳芳张海生杨诗晴
关键词:离子印迹聚合物
磁性印迹材料的制备及其性能研究
2012年
本实验以salophen为功能单体,Th(Ⅳ)离子为模板离子,乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)作交联剂,用偶氮二异丁腈(AIBN)作引发剂在烯基化的磁性Fe3O4粒子表面上热聚合制备磁性印迹材料.探讨此印迹材料对钍(Ⅳ)的最佳吸附条件.结果表明:此磁性印迹材料在pH为4.5,在70μg/mL钍(Ⅳ)中吸附30 min可以到达最大吸附容量42.54μg/mg.Th(Ⅳ)印迹材料相对U(Ⅵ),La(Ⅲ)和Ce(Ⅲ)的相对选择性系数分别是62.4,82.2和93.1,说明此材料可以在La(Ⅲ),Ce(Ⅲ)和U(Ⅳ)的存在下检测Th(Ⅳ).
何芳芳王宏青王榆元张海生李虹霖
关键词:SALOPHEN
磁性Salophen Th(Ⅳ)识别材料的制备及性能
当今世界面临着众多的问题,能源紧缺就是其中的重中之重。钍作为最有潜能替代铀的核能元素,未来将成为主要的核能元素。但是由于其具有的对人体和环境有巨大的伤害的放射性和毒性,所以对环境中钍(Ⅳ)的提取与监测已成为必要。离子印迹...
何芳芳
关键词:印迹聚合物
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共1页<1>
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