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张红梅

作品数:8 被引量:3H指数:1
供职机构:新疆轻工职业技术学院更多>>
相关领域:理学电子电信冶金工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 3篇专利

领域

  • 2篇理学
  • 1篇冶金工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇多孔硅
  • 2篇激光
  • 1篇单片
  • 1篇单片机
  • 1篇电气
  • 1篇电气自动化
  • 1篇端面泵浦
  • 1篇信号
  • 1篇信号处理
  • 1篇信号处理器
  • 1篇遗失
  • 1篇硬件
  • 1篇硬件设计
  • 1篇再生放大器
  • 1篇增阻
  • 1篇散热
  • 1篇散热效果
  • 1篇适配
  • 1篇适配器
  • 1篇数据采集

机构

  • 8篇新疆轻工职业...
  • 2篇新疆大学
  • 1篇中国科学院光...

作者

  • 8篇张红梅
  • 3篇张振宇
  • 2篇赵硕伟
  • 2篇杨振元
  • 2篇关艳翠
  • 2篇刘艳荣
  • 2篇赵乾
  • 2篇吕长武
  • 1篇刘斌儒
  • 1篇白振岙
  • 1篇樊春年
  • 1篇郭晓丽
  • 1篇王俊娜
  • 1篇杜卫平

传媒

  • 2篇黑龙江科技信...
  • 1篇化学工程师
  • 1篇应用激光
  • 1篇光学与光电技...

年份

  • 1篇2019
  • 4篇2018
  • 3篇2017
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
实验验证数控机床在线测量系统误差分析被引量:1
2017年
通过实验验证数控机床在线测量系统误差分析。
张红梅张振宇
关键词:数控机床误差分析
一种电子与通讯设备用防尘装置
本实用新型公开了一种电子与通讯设备用防尘装置,包括密封帽、固定卡圈和光纤适配器,所述密封帽的开口帽体上设置有第一密封垫圈,且密封帽内部的底端帽体上设置有第二密封垫圈,所述固定卡圈的圈体上设置有卡插口,且固定卡圈和密封帽之...
樊春年关艳翠赵硕伟杜卫平刘艳荣杨振元刘斌儒王俊娜张红梅郭晓丽赵乾多里坤·艾克白尔
文献传递
基于单片机的数据采集卡的硬件设计
2017年
重点介绍了基于单片机的数据采集卡的硬件设计。
张振宇张红梅
关键词:单片机数据采集卡硬件
一种可视激光位移传感器
本实用新型提供了一种可视激光位移传感器,包括壳体,所述壳体内设有PCB板,所述PCB板连接有信号处理器,所述信号处理器分别连接有线性CCD感光片和激光二极管,所述线性CCD感光片前方设有镜片组,所述壳体包括前侧面、后侧面...
张红梅张振宇
文献传递
CdSe/ZnS量子点/介孔硅复合膜的光致发光谱被引量:1
2018年
研究了CdSe/ZnS量子点与介孔多孔硅偶联吸附结合的复合膜的光致发光谱。实验比较了CdSe/ZnS量子点与硅复合和与多孔硅复合的光致发光,发现量子点与多孔硅复合的发光比与硅复合有很大的增强。对不同孔径的多孔硅与量子点复合后的光致发光谱的比较发现,由于孔径大小对量子点浸入介孔硅有影响,孔径大浸入的量子点较多所以大孔径多孔硅的发光比小孔径的发光强。量子点与多孔硅复合的光致发光具有量子点荧光发光强度高、稳定和窄带发光的特点,对进一步应用于基于多孔硅器件的光学传感器有重要意义。
张红梅吕长武
关键词:多孔硅复合膜光致发光
光纤端面泵浦大能量皮秒激光器被引量:1
2018年
介绍了一台工业级大能量光纤耦合激光二极管(LD)端面泵浦皮秒脉冲激光器。装置利用Nd:YVO_4晶体作为增益介质,通过半导体可饱和吸收镜(SESAM)获得重复频率93.85 MHz、脉冲宽度15.8ps、单路输出功率200 mW的锁模脉冲序列。放大器采用LD端面泵浦Nd:YAG晶体提供增益,其中,再生放大器实现了重复频率在1~20 Hz范围内可调,且单脉冲能量10~6倍率的选脉冲放大,双通行波放大器对脉冲进行再次放大,最终获得了单脉冲能量为12 mJ的皮秒激光输出。
张红梅白振岙
关键词:激光技术皮秒脉冲大能量再生放大器
一种电气自动化控制台
本实用新型公开了一种电气自动化控制台,包括底座盘、箱体、通风孔、支撑杆和操作台,所述底座盘的顶端固定安装有箱体,所述箱体的一侧开设有通风孔,所述箱体的顶端固定安装有支撑杆,所述支撑杆的顶端固定安装有操作台,所述底座盘的背...
赵硕伟赵乾杨振元关艳翠刘艳荣张红梅
文献传递
NaOH溶液对多孔硅后处理的研究
2018年
用强碱溶液后处理多孔硅的方法常被用来打开表面孔洞,以便生物化学分子更好的进入孔洞而实现传感检测的目的。对于纳米多孔硅,碱溶液处理带来的孔洞直径的增加不可忽视,而对此的相关研究未见报道。本文用浓度分别为1、3和15m mol·L^(-1)的NaOH溶液对多孔硅进行后处理研究,处理时间从1min到30min。用NaOH溶液处理以后的多孔硅,孔径大小会改变,从而孔隙率改变导致多孔硅的折射率改变。测量不同条件下后处理多孔硅的反射光谱时反射谱会发生平移。实验结果表明:单层多孔硅和多层多孔硅,随着处理时间增加,Na OH溶液浓度增大,反射谱波峰会向波长小的方向移动,即发生蓝移。当Na OH溶液浓度达到15m M,浸泡时间达到8min时,多孔硅结构遭到破坏。
张红梅吕长武
关键词:多孔硅NAOH溶液后处理
共1页<1>
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