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李智钢

作品数：11 被引量：7H指数：1
供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：文化科学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇文化科学
  • 1篇机械工程

主题

  • 7篇光学
  • 6篇抛光
  • 3篇光学元件
  • 2篇导轨
  • 2篇研磨
  • 2篇声波
  • 2篇时间响应特性
  • 2篇锁紧
  • 2篇锁紧螺母
  • 2篇同心度
  • 2篇抛光粉
  • 2篇平面光学元件
  • 2篇平行度
  • 2篇千分表
  • 2篇装夹
  • 2篇离轴
  • 2篇螺母
  • 2篇面形
  • 2篇面形误差
  • 2篇焦距

机构

  • 11篇成都精密光学...

作者

  • 11篇朱衡
  • 11篇鲍振军
  • 11篇李智钢
  • 11篇蔡红梅
  • 10篇鄢定尧
  • 8篇马平
  • 8篇周衡
  • 5篇张贤红
  • 2篇赵恒
  • 2篇高胥华
  • 2篇谢磊
  • 2篇胡庆
  • 2篇黄金勇
  • 2篇王刚
  • 2篇何祥
  • 1篇李瑞洁

传媒

  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2021
  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2016
共 11 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
光学球罩同心度检测装置
本实用新型公开了一种光学球罩同心度检测装置，属于光学元件检测技术领域。它包括底板、工件架、定位块、上千分表、下千分表和立柱，工件架上通过定位轴和锁紧螺母连接有定位块，定位块上设有弧形定位面，定位块经压紧螺栓连接有压紧块，...
鲍振军马平鄢定尧朱衡蔡红梅李智钢张贤红周衡
文献传递
一种平面光学元件及其加工方法
本申请公开了一种平面光学元件及其加工方法，包括研磨待加工平面光学元件的第一表面，使研磨后第一表面的反射面形误差数据小于第一面形误差阈值，得到第一平面光学元件；抛光研磨后第一表面，使抛光后第一表面的反射面形误差数据小于第二...
朱衡吴迪龙鲍振军周衡李智钢蔡红梅鄢定尧
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光学球罩同心度检测装置
本发明公开了一种光学球罩同心度检测装置，属于光学元件检测技术领域。它包括底板、工件架、定位块、上千分表、下千分表和立柱，工件架上通过定位轴和锁紧螺母连接有定位块，定位块上设有弧形定位面，定位块经压紧螺栓连接有压紧块，工件...
鲍振军马平鄢定尧朱衡蔡红梅李智钢张贤红周衡
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离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
本发明公开了一种离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置，属于光学技术领域。它包括底座、转盘，弧形导轨、调节螺栓和支架，转盘置于底座的一端，弧形导轨固定于底座的另一端，其弧线与转盘同圆心，调节螺栓经螺栓座与底座连接，支架两...
鲍振军朱衡蔡红梅李智钢鄢定尧马平刘杰张贤红周衡
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离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置
本实用新型公开了一种离轴抛物面反射镜的离轴量和焦距测量装置，属于光学技术领域。它包括底座、转盘，弧形导轨、调节螺栓和支架，转盘置于底座的一端，弧形导轨固定于底座的另一端，其弧线与转盘同圆心，调节螺栓经螺栓座与底座连接，支...
鲍振军朱衡蔡红梅李智钢鄢定尧马平刘杰张贤红周衡
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一种平面光学元件及其加工方法
本申请公开了一种平面光学元件及其加工方法，包括研磨待加工平面光学元件的第一表面，使研磨后第一表面的反射面形误差数据小于第一面形误差阈值，得到第一平面光学元件；抛光研磨后第一表面，使抛光后第一表面的反射面形误差数据小于第二...
朱衡吴迪龙鲍振军周衡李智钢蔡红梅鄢定尧
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一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法
本发明公开了一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法，属于超精密光学表面加工领域。所述抛光装置包括顶部外罩1、兆声波换能器2、换能器集束座3、连接座4、储液腔5、密封圈6、喷嘴7，所述喷嘴7上设有用于供抛光液8喷出的小...
赵恒蔡超何祥马平鄢定尧黄金勇王刚谢磊胡庆蔡红梅鲍振军李智钢卢忠文崔建朋朱衡高胥华
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一种新型研磨抛光工装
本实用新型公开一种新型研磨抛光工装，包括铝合金衬底、铝盘、万向节从动叉、十字连接件和万向节主动叉，铝合金衬底上设置有用于进行研磨抛光作业的抛光垫层，且铝合金衬底设置于铝盘底部，铝盘顶部与万向节从动叉连接，万向节从动叉与万...
李智钢马平李瑞洁鄢定尧朱衡鲍振军蔡红梅
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一种高陡度光学元件研磨抛光装置和加工方法
本发明公开了一种用于高陡度光学元件进行研磨抛光的装置和相应的加工方法，涉及光学元件加工领域，该装置包括连接块（8）、第一驱动部、加工部、第二驱动部、支撑架（2）、竖向导轨（5）、竖向滑块（6）、横向导轨（13）、横向滑块...
鲍振军朱衡崔建朋李智钢鄢定尧马平蔡红梅吴迪龙张贤红周衡
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一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法
本发明公开了一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法，属于超精密光学表面加工领域。所述抛光装置包括顶部外罩、兆声波换能器、换能器集束座、连接座、储液腔、密封圈、喷嘴，所述喷嘴上设有用于供抛光液喷出的小孔。该共聚焦兆声波...
赵恒蔡超何祥马平鄢定尧黄金勇王刚谢磊胡庆蔡红梅鲍振军李智钢卢忠文崔建朋朱衡高胥华
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