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王鹏飞

作品数:2 被引量:3H指数:1
供职机构:重庆大学动力工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇表面层
  • 1篇切片
  • 1篇过饱和度
  • 1篇Z

机构

  • 2篇重庆大学

作者

  • 2篇胡志涛
  • 2篇王鹏飞
  • 1篇李明伟
  • 1篇邓伟
  • 1篇肖林海

传媒

  • 1篇材料导报
  • 1篇重庆科技学院...

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
涂覆法观测kh2po4晶体Z切片薄表面层形成和生长特性被引量:3
2016年
提出一种实验研究薄表面层形成和生长的涂覆法。利用该方法,以KH_2PO_4(KDP)晶体Z切片为载体,探究晶体的某些部位,比如(001)面、棱边、柱面在薄表面层形成以及生长过程中所起的作用。结果表明,当Z切片的(001)面上的棱边被覆盖,会首先以小晶锥的形式在(001)面形成新棱边,然后自新棱边沿(101)面切线方向出现薄表面层生长;当整个(001)面被覆盖,柱面生长一定时间并形成新棱边,之后也会出现薄表面层生长;当(001)面被涂覆分割,各分割部分能在各自的新棱边形成后以薄表面层方式形成独立的锥体,而在锥体间的棱边恢复后,独立锥体相应锥面能实现连接。可见,棱边是薄表面层形成的先决条件。对各种涂覆处理的Z切片通过光学显微镜实时观测,发现棱边在薄表面层形成中起关键作用,而柱面能提供台阶,在薄表面层生长中起重要作用;同时,得到了不同涂覆处理方式下薄表面层切向生长速度和动力学系数。
邓伟李明伟王鹏飞胡志涛
浮力对流对KH2PO4晶体薄表面层生长的影响
2017年
通过对Z切片等多种非完整形态下KH_2PO_4晶体生长薄表面层的实时观察,发现薄表面层的生长与浮力对流导致的溶液过饱和度梯度之间存在密切联系。晶体棱边处的过饱和度往往高于晶面内部,使得处于该条件下的非完整形态晶体的棱边可在后续生长过程中产生薄表面层,进而恢复晶体的完整形态。棱边处拥有的"过饱和度优势"是其产生薄表面层的先决条件,若棱边处于"过饱和度劣势",则薄表面层生长必然受到抑制。合理利用浮力对流,可使用非完整的Z切片籽晶生长KDP晶体,以节约晶体材料。
肖林海胡志涛王鹏飞
共1页<1>
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