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李哲

作品数:3 被引量:5H指数:1
供职机构:长春理工大学光电工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇微结构
  • 1篇掩模
  • 1篇数字微镜
  • 1篇平面波
  • 1篇无掩模
  • 1篇无掩模光刻
  • 1篇灰度掩模
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻制作
  • 1篇光学
  • 1篇红外
  • 1篇红外波段
  • 1篇DMD
  • 1篇表面光学
  • 1篇波段
  • 1篇槽栅

机构

  • 3篇长春理工大学
  • 1篇长春长光辰芯...

作者

  • 3篇王丽
  • 3篇孙艳军
  • 3篇李哲
  • 2篇冷雁冰
  • 2篇董连和
  • 1篇王君

传媒

  • 1篇光学学报
  • 1篇光散射学报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2016
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
槽栅型微结构用于红外色差校正的仿真与实验被引量:1
2018年
针对传统光学元件在红外波段色差校正方面存在系统结构复杂、光能损失严重、质量大等问题,以红外波段4.8μm和10.6μm存在的色差为例,将槽栅型表面微结构用于红外波段的色差校正;根据广义斯涅尔定律及时域有限差分(FDTD)理论计算微结构表面的相位分布,采用FDTD Solution软件仿真双方柱槽栅型微结构;设计两个槽栅型微结构宽度L1=400nm、L2=950nm,槽栅高度K=500nm;采用离心式涂胶法、电子束光刻、离子刻蚀等一系列工艺技术,制备双方柱槽栅型微结构样品,分析胶膜厚度、曝光图像质量、刻蚀槽型的影响因素。结果表明:改变L1和L2的大小可实现在4.8μm和10.6μm这两种波长下分别达到0~1.5π和0~2π范围的相位调制;L1=408nm,L2=944nm,K=495.32nm,表面粗糙度为16.32nm,相关参数在误差允许范围之内;4.8μm和10.6μm这两个红外波段的峰值透过率分别为71%和64%;利用平行光位置色差测试原理测得两个红外波位置色差减小到30%,从而验证了槽栅型微结构器件对红外色差的校正作用。
孙艳军王君纪雪松王丽王越李哲
关键词:表面光学红外波段
平面波透射聚焦超表面结构设计被引量:3
2017年
为实现单个平面透镜在10.6!m波长处的会聚功能,本文设计并制备了一种一维亚波长光栅面型超表面(electromagnetic meta-surface)。基于电磁谐振现象,利用双条形介质耦合结构模型设计了会聚超表面单元结构,并采用FDTD Solution软件进行仿真计算证明了其对光波位相的调制作用,筛选出了10个位相梯度。通过对10个位相梯度的自由组合形成会聚超表面平面透镜,并进行了实验验证。实验结果表明:在设计波长上,超表面平面透镜对TM模式平面波能够较好地实现透射会聚的功能,焦距为49mm,会聚光斑最小宽度是0.7mm,工作效率达到60%。
李哲董连和孙艳军冷雁冰王丽胡一楠
关键词:微结构
基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究被引量:1
2016年
针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层掩模在抗蚀剂上的投影成像高度不超过物镜的焦深范围。基于数字微镜阵列对灰度掩模的空间调制原理,设计出匹配的分层掩模版图,给出了图形分层原则和方法以及模板设计的原理。实验结果表明:采用该方法制作微柱透镜阵列,面形平均误差为0.54μm,相比以往单模曝光平均误差值0.79μm,平均误差减小了0.25μm,该方法弥补了由物镜焦深限制所造成的技术问题,提高了曝光质量。
张恒煦董连和王丽孙艳军冷雁冰吴博琦李哲刘顺瑞
关键词:无掩模光刻数字微镜灰度掩模
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