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文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电学
  • 1篇电学特性
  • 1篇少子扩散长度
  • 1篇隧穿
  • 1篇外延层
  • 1篇量子
  • 1篇量子隧穿
  • 1篇纳米硅
  • 1篇GA
  • 1篇LPE
  • 1篇掺硼
  • 1篇N-
  • 1篇INGAAS

机构

  • 2篇中国科学院上...

作者

  • 2篇陈强
  • 1篇胡雨生
  • 1篇徐刚毅
  • 1篇邓加军
  • 1篇杨易
  • 1篇王金良

传媒

  • 1篇稀有金属

年份

  • 1篇2000
  • 1篇1989
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
掺硼纳米硅薄膜电学特性的研究
在等离子化学气相沉积系统中,使用高倍氢稀释硅烷为反应气体,通过加入硼烷(BH)制备掺硼纳米硅薄膜。使用Keithly电流计测得薄膜的电阻,然后计算出其电导率。在低掺硼浓度下,费米能级向带隙中央移动,造成电导激活能的增大和...
邓加军王金良陈强徐刚毅
关键词:纳米硅掺硼量子隧穿
文献传递
LPE-n-In_(0.53)Ga_(0.47)As中少子扩散长度的研究
1989年
本文用表面光伏法(SPV)测定了在(100)晶向 InP 衬底上液相外延生长的晶格匹配的In_(0.53)Ga_(0.47)As 外延层中的少子扩散长度。已测得的典型结果为:N_D=5×10^(15)cm^(-3),L_P=2μm;N_D=1.2×10^(18)cm^(-3),L_P=0.85μm。此外,还给出了不同浓度(N_D)的 n-InGaAs 中少子扩散长度的变化情况。发现当 N_D 增大时,L_P 随之下降,并且 L_P 下降幅度在高浓度范围内明显加剧。研究结果表明,对于三元合金 n-In_(0.53)Ga_(0.47)As 材料,只要满足一定测试条件,并对样品表面进行必要处理,用 SPV 法测量扩散长度是可行的。
胡雨生周柄林杨易陈强
关键词:INGAAS少子扩散长度外延层
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