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文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 2篇石墨
  • 2篇石墨烯
  • 2篇空穴
  • 1篇对光
  • 1篇氧化物
  • 1篇氧化钛薄膜
  • 1篇铁掺杂
  • 1篇金属
  • 1篇金属氧化物
  • 1篇功函数
  • 1篇光催化
  • 1篇光催化性
  • 1篇光催化性能
  • 1篇二氧化钛薄膜
  • 1篇掺杂
  • 1篇掺杂改性
  • 1篇催化
  • 1篇催化性

机构

  • 3篇新加坡国立大...
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇中国科学技术...

作者

  • 3篇王骁
  • 2篇陈伟
  • 2篇谢兰飞
  • 2篇陈振宇
  • 2篇孙家涛
  • 1篇王韬
  • 1篇张丽娟

传媒

  • 1篇第十届全国博...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2013
  • 1篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
铁掺杂二氧化钛薄膜缺陷机制对光催化性能的影响
Fe掺杂TiO2能够显著增强光催化性能同时引入复杂的缺陷变化.在本文中, 采用溶胶-凝胶法制备了不同Fe、Ti比的Fe-TiO2薄膜,并通过X射线衍射,紫外-可见吸收光谱,电子湮没谱和甲基橙的降解实验研究了微观缺陷对光催...
张丽娟王韬王骁孟丹刘建党成斌叶邦角
关键词:二氧化钛薄膜掺杂改性光催化性能
文献传递
石墨烯的空穴掺杂
一种制品,包括具有第一功函数的石墨烯层;和设置设置在石墨烯层上的金属氧化物膜,所述金属氧化物膜具有大于第一功函数的第二功函数。电子从石墨烯层转移到金属氧化物膜,在石墨烯层中形成空穴累积层。
陈伟陈振宇黄载贤谢兰飞王骁孙家涛阿里安多
文献传递
石墨烯的空穴掺杂
一种制品,包括具有第一功函数的石墨烯层;和设置设置在石墨烯层上的金属氧化物膜,所述金属氧化物膜具有大于第一功函数的第二功函数。电子从石墨烯层转移到金属氧化物膜,在石墨烯层中形成空穴累积层。
陈伟陈振宇黄载贤谢兰飞王骁孙家涛阿里安多
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