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李海波

作品数:8 被引量:18H指数:3
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:中国工程物理研究院科学技术发展基金国家自然科学基金博士科研启动基金更多>>
相关领域:机械工程理学电子电信更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇电子电信
  • 3篇理学

主题

  • 4篇激光
  • 3篇光学
  • 2篇等离子体
  • 2篇抛光
  • 2篇激光等离子体
  • 2篇激光诱导
  • 2篇激光诱导损伤
  • 2篇光学元件
  • 2篇HFO
  • 2篇磁流变
  • 2篇磁流变抛光
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇谱密度
  • 1篇去除函数
  • 1篇小波
  • 1篇小波变换
  • 1篇离子束
  • 1篇面形

机构

  • 8篇成都精密光学...
  • 2篇四川大学
  • 1篇成都医学院
  • 1篇浙江师范大学
  • 1篇奥普镀膜技术...

作者

  • 8篇李海波
  • 2篇杨李茗
  • 2篇包凌东
  • 2篇钟波
  • 2篇袁志刚
  • 2篇郑楠
  • 1篇陈松林
  • 1篇周继芳
  • 1篇许乔
  • 1篇刘岩岩
  • 1篇冯国英
  • 1篇陈建国
  • 1篇王震
  • 1篇高翔
  • 1篇潘峰
  • 1篇张清华
  • 1篇李瑞洁
  • 1篇韩敬华
  • 1篇马平
  • 1篇徐建程

传媒

  • 3篇强激光与粒子...
  • 2篇应用光学
  • 1篇激光杂志
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇信息与电子工...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 4篇2011
  • 2篇2010
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
HfO_2/SiO_2薄膜的激光预处理作用研究
2014年
对电子束蒸发方式镀制的HfO2/SiO2反射膜采用大口径激光进行辐照,采用激光量热计测量了激光辐射前后的弱吸收值。实验发现HfO2/SiO2反射膜在分别采用1 064nm和532nm的激光辐照前后薄膜吸收分别从5.4%和1.7%降低到1.4和1.2%。采用聚焦离子束技术分析了激光辐照后薄膜的损伤形态并探究了损伤原因,发现:薄膜在激光辐照下存在节瘤的地方容易出现薄膜损伤,具体表现为熔融、部分喷发、完全脱落3种形态,节瘤缺陷种子来源的差异是导致其损伤机理也存在着巨大差异的主要原因。同时这些节瘤缺陷种子来源也影响着激光预处理作用效果,激光预处理技术对于祛除位于基底上种子形成的节瘤是有效的,原因是激光辐射过后该节瘤进行了预喷发而不会对后续激光产生影响;而激光预处理技术对位于膜层中间的可能是镀膜过程中材料飞溅引起的缺陷是无效的,需要通过飞秒激光手段对该类节瘤进行祛除。
李海波杜雅薇张清华卫耀伟
关键词:激光薄膜激光预处理聚焦离子束
大口径光学元件磁流变抛光工艺软件设计被引量:4
2011年
基于磁流变抛光机理,采用简森-范锡图特法求解驻留时间函数以确定磁流变抛光工艺软件的核心算法设计,开展工艺软件全过程模块化、流程化设计,进行功能模块测试。软件开发过程中兼顾各功能模块间关系耦合,并完成工艺软件的代码集成测试。开展500 mm口径的微晶平面反射镜的验证实验,结果表明元件面形值获得快速有效收敛。证实了所设计的工艺软件能够精准地指导大口径光学元件的磁流变加工。
郑楠李海波袁志刚钟波
关键词:磁流变抛光去除函数面形精度
激光等离子体对BK7玻璃的损伤的特征研究被引量:1
2011年
实验研究了ns激光脉冲聚焦到BK7玻璃表面发生电离时玻璃的损伤形貌,并基于激光等离子体的特性对损伤特征进行了分析。研究发现:激光击穿产生的激光等离子体具有高温高压的特性以及较宽的光谱分布,这些特性对脆性BK7玻璃的损伤特性有决定性的影响。激光等离子体发射光谱的波长分布远远小于入射激光的波长,其电离效应大大增强,使玻璃材料更易发生击穿;等离子体的高温特性会对脆性玻璃进行熔蚀;冲击波作用使损伤中心处发生充分断裂,并绕中心产生环状的破坏;发生环形断裂的同时,张力作用会使得玻璃产生沿着径向的裂纹,其间折射率发生明显的变化。
周继芳李海波温海舒傅玉青包凌东杨李茗陈建国
关键词:激光诱导损伤激光等离子体冲击波
激光等离子体效应对硅表面损伤特征的影响被引量:1
2011年
硅材料作为光电探测器的基础材料,研究其在强激光辐照下的损伤问题在激光探测、国防领域很有意义。对高强度纳秒激光作用下硅表面的损伤形貌特征进行了研究,结果表明:激光等离子体的热效应及冲击波效应,使激光作用区域内的物质迅速向外飞溅,形成点坑,并在点坑周围形成辐射状冷却物;散射光与入射激光干涉产生形成周期性分布的热应力使得硅材料表面张力发生变化,冷却后会在坑底表面产生周期性结构;从激光等离子体的光谱中可以发现N,O和Si的特征光谱,在重复激光脉冲作用下会在硅表面上覆盖一层导致色变的SiOx和SiNx复合薄膜,是激光等离子体的喷射产物。
范卫星韩敬华李海波杨李茗冯国英高翔刘岩岩包凌东黄永忠
关键词:激光等离子体多晶硅激光诱导损伤
光学表面非均匀中频误差的评价与修正被引量:2
2015年
针对光学元件使用过程中中频误差将导致光学元件的激光破坏这一问题,提出一种中频误差突出频率提取方法。采用基于统计学的多样本数据处理,对于每一种采样方向都可以得到数个较为突出的不合格频率。利用这些频率进行确定性加工后,在特定方向,空间频率0.044 1mm-1,0.085 8mm-1,0.041 7mm-1所出现的不合格次数分别降至加工前的23.9%,18.3%,29.2%,而整体中频误差减少至50.1%。结果表明,此方法降低了由光学表面中频误差方向性与局部性引起的不确定性。
张昊宇钟波赵世杰李瑞洁李海波陈贤华
关键词:光学加工小波变换
HfO_2/SiO_2双色膜在1064nm和532nm激光辐照下的损伤特性被引量:3
2011年
采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
潘峰陈松林李海波马平王震
关键词:激光损伤
基于Wigner分布函数的光学元件评价方法被引量:7
2010年
为了有效地表征和评价光学元件局部小尺度波前畸变,提出了能同时反映空间频率和空间位置的Wigner分布函数评价方法。通过理论分析Wigner分布函数与功率谱密度之间的关系,得到了局部波前畸变的评价方法和指标。模拟计算和实验结果验证了该方法的有效性,并表明:该方法不但能判断光学元件的中频误差是否满足惯性约束聚变系统要求,而且还能确定不满足要求的特定区域,从而有效地指导光学元件的返修。
徐建程李海波范长江许乔柴立群
关键词:WIGNER分布函数功率谱密度光学元件
计算机控制磁流变抛光软件去除算法设计
2010年
根据计算机控制磁流变抛光的去除机理,分析了抛光工艺软件的去除算法核心问题即求解驻留时间函数和加工路径设计。采用简森-范锡图特法对驻留时间函数进行迭代求解,同时优化设计工艺软件的加工路径算法,开展工艺软件全过程模块化、流程化设计,完成工艺软件的代码集成测试。最后,通过工艺软件控制磁流变抛光330mm×330mm石英平面反射镜实验,验证去除算法控制抛光过程的有效性及准确性,实验值与理论值吻合良好,从而证实工艺软件去除算法能够准确、有效地指导大口径光学元件的磁流变加工。
郑楠李海波袁志刚
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