您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 3篇中文专利

主题

  • 3篇湿法
  • 3篇刻蚀
  • 3篇刻蚀设备
  • 3篇硅片
  • 3篇硅片表面
  • 2篇湿法刻蚀
  • 2篇反应速率
  • 1篇溢流

机构

  • 3篇常州天合光能...

作者

  • 3篇王文杰
  • 3篇彭文龙
  • 3篇祁宏山
  • 3篇肖新民
  • 3篇丁志强

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法
本发明涉及一种硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法,包括输送滚轮、储液盒和进液管道,储液盒内具有储液腔体,储液盒设置在输送滚轮的上方,反应液通过进液管道进入储液盒,储液盒的底部设置多个将反应液喷向通过输送滚轮输送的硅片的上表面的...
卫志敏肖新民丁志强祁宏山王文杰彭文龙
文献传递
硅片湿法刻蚀设备
本实用新型涉及一种硅片湿法刻蚀设备,包括输送滚轮、储液盒和进液管道,储液盒内具有储液腔体,储液盒设置在输送滚轮的上方,反应液通过进液管道进入储液盒,储液盒的底部设置多个将反应液喷向通过输送滚轮输送的硅片的上表面的喷液孔。...
卫志敏肖新民丁志强祁宏山王文杰彭文龙
文献传递
硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法
本发明涉及一种硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法,包括输送滚轮、储液盒和进液管道,储液盒内具有储液腔体,储液盒设置在输送滚轮的上方,反应液通过进液管道进入储液盒,储液盒的底部设置多个将反应液喷向通过输送滚轮输送的硅片的上表面的...
卫志敏肖新民丁志强祁宏山王文杰彭文龙
文献传递
共1页<1>
聚类工具0