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彭文龙
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3
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常州天合光能有限公司
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合作作者
丁志强
常州天合光能有限公司
肖新民
常州天合光能有限公司
祁宏山
常州天合光能有限公司
王文杰
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常州天合光能...
作者
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王文杰
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彭文龙
3篇
祁宏山
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肖新民
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丁志强
年份
1篇
2016
2篇
2014
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硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法
本发明涉及一种硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法,包括输送滚轮、储液盒和进液管道,储液盒内具有储液腔体,储液盒设置在输送滚轮的上方,反应液通过进液管道进入储液盒,储液盒的底部设置多个将反应液喷向通过输送滚轮输送的硅片的上表面的...
卫志敏
肖新民
丁志强
祁宏山
王文杰
彭文龙
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硅片湿法刻蚀设备
本实用新型涉及一种硅片湿法刻蚀设备,包括输送滚轮、储液盒和进液管道,储液盒内具有储液腔体,储液盒设置在输送滚轮的上方,反应液通过进液管道进入储液盒,储液盒的底部设置多个将反应液喷向通过输送滚轮输送的硅片的上表面的喷液孔。...
卫志敏
肖新民
丁志强
祁宏山
王文杰
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硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法
本发明涉及一种硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法,包括输送滚轮、储液盒和进液管道,储液盒内具有储液腔体,储液盒设置在输送滚轮的上方,反应液通过进液管道进入储液盒,储液盒的底部设置多个将反应液喷向通过输送滚轮输送的硅片的上表面的...
卫志敏
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丁志强
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