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柴超

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：常州天合光能有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文专利

主题

  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇水膜
  • 1篇刻蚀
  • 1篇扩散
  • 1篇光电转换
  • 1篇光电转换效率
  • 1篇硅片
  • 1篇硅片表面

机构

  • 1篇常州天合光能...

作者

  • 1篇柴超
  • 1篇何伟

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
一种扩散面水膜保护湿法刻蚀工艺
本发明涉及太阳能电池制造过程中的链式湿法刻蚀工艺，特别是一种扩散面水膜保护湿法刻蚀工艺。该工艺首先在待刻蚀的硅片扩散面形成一层水膜保护层，该水膜保护层在后续刻蚀时用来保护硅片的扩散面，然后该硅片漂浮在刻蚀药液上进行常规湿...
何伟柴超
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