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谭桂娟

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团第二十六研究所更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇压电
  • 1篇压电陶瓷
  • 1篇圆片
  • 1篇双面研磨
  • 1篇水溶
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇频率合成器
  • 1篇化学腐蚀
  • 1篇合成器
  • 1篇FS

机构

  • 2篇中国电子科技...

作者

  • 2篇谭桂娟
  • 1篇章露
  • 1篇刘光耀
  • 1篇唐小艳
  • 1篇戴梅生
  • 1篇蒋创新
  • 1篇米佳
  • 1篇李洪平
  • 1篇成斌
  • 1篇叶锋
  • 1篇张峥嵘
  • 1篇伍鹏
  • 1篇陈婷
  • 1篇聂广琳
  • 1篇张静雯
  • 1篇鄢秋娟
  • 1篇于新晓
  • 1篇罗夏林
  • 1篇刘善群

传媒

  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2015
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
FS-228频率合成器(本振产生模块)
戴梅生蒋创新聂广琳叶锋谭桂娟陈婷伍鹏刘光耀成斌白涛汤劲松唐小艳张峥嵘章露
采用直接频率合成方法，由晶振、梳谱、混频、滤波、放大、功分、开关等部分组成。100M晶振信号经功分放大产生6路100M信号，其中一路激励基频梳谱产生600M信号和其它L波段信号，600M信号再次激励Ku波段梳谱送入功分滤...
关键词：
关键词：频率合成器
压电陶瓷圆片单面研磨抛光工艺被引量：1
2018年
介绍了一种在行星式双面磨抛设备上对压电陶瓷圆片进行单面研磨和抛光的工艺。在加工过程中,使用了自制的全水溶性粘接剂来粘接晶片,实现了圆片单面所有磨抛加工流程都在双面磨抛设备上进行。采用自制化学腐蚀液分段腐蚀控制圆片形貌(翘曲度)的变化,中间研磨工序优化介质控制表面粗糙度和划道、SiO2胶体化学机械抛光去除亚损伤层,获得了高品质的铝钛酸铝压电陶瓷(PZT)单面抛光圆片。
鄢秋娟罗夏林米佳李洪平谭桂娟刘善群唐运红于新晓张静雯
关键词：双面研磨化学腐蚀
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共1页<1>
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