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高翔

作品数:23 被引量:10H指数:2
供职机构:广东工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国博士后科学基金广东省自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信一般工业技术文化科学更多>>

文献类型

  • 19篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 8篇金属学及工艺
  • 5篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 11篇涂层
  • 10篇溅射
  • 10篇磁控
  • 10篇磁控溅射
  • 6篇硼化钛
  • 6篇激光
  • 6篇二硼化钛
  • 5篇金刚石
  • 5篇金刚石涂层
  • 5篇激光器
  • 5篇刚石
  • 5篇半导体
  • 5篇半导体激光
  • 5篇半导体激光器
  • 4篇类金刚石涂层
  • 3篇调制周期
  • 3篇接层
  • 3篇绝缘
  • 3篇溅射沉积
  • 3篇共沉积

机构

  • 23篇广东工业大学
  • 1篇深圳职业技术...

作者

  • 23篇高翔
  • 15篇王启民
  • 13篇代伟
  • 6篇郝明明
  • 2篇耿东森
  • 1篇何燕
  • 1篇郑杰
  • 1篇赵升升
  • 1篇唐鹏
  • 1篇聂志伟
  • 1篇刘景茂
  • 1篇吴正涛

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇现代制造技术...

年份

  • 6篇2022
  • 1篇2020
  • 4篇2019
  • 2篇2018
  • 7篇2017
  • 3篇2016
23 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种周期性多层结构的二硼化钛-二硼化锆涂层及其制备方法和应用
本发明属于表面防护技术及相关涂层技术领域,公开了一种周期性多层结构的二硼化钛‑二硼化锆涂层及其制备方法和应用。该涂层是以二硼化钛陶瓷靶和二硼化锆陶瓷靶为原料,通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成由二硼化钛纳米陶瓷层与...
代伟高翔王启民
文献传递
一种TiZrB<Sub>2</Sub>硬质涂层及其制备方法和应用
本发明属于表面防护技术及相关涂层技术领域,公开了一种TiZrB<Sub>2</Sub>硬质涂层及其制备方法和应用。该涂层是以TiB<Sub>2</Sub>为主晶相,金属Zr为次晶相,利用双极脉冲磁控溅射技术制备合成。其中...
代伟高翔王启民
文献传递
一种三元掺杂纳米复合多层类金刚石涂层及其制备方法和应用
本发明属于表面防护技术及相关涂层材料技术领域,公开了一种三元掺杂纳米复合多层类金刚石涂层及其制备方法和应用。该涂层由碳元素、碳化物形成金属元素、弱碳化物形成金属元素和非金属元素组成。涂层中,碳元素以无定形碳形式存在,形成...
代伟高翔王启民
文献传递
一种基于绝缘层的半导体激光器次热沉结构及其制备方法
本发明属于半导体激光器技术领域,公开了一种基于绝缘层的半导体激光器次热沉结构及其制备方法。所述半导体激光器次热沉结构依次包括碳化硅次热沉、绝缘层、金属层和焊接层;在金属层上刻蚀绝缘沟槽,所述绝缘沟槽将金属层分成两部分,在...
高翔郝明明王云才周勇
一种周期性多层结构的二硼化钛‑二硼化锆涂层及其制备方法和应用
本发明属于表面防护技术及相关涂层技术领域,公开了一种周期性多层结构的二硼化钛‑二硼化锆涂层及其制备方法和应用。该涂层是以二硼化钛陶瓷靶和二硼化锆陶瓷靶为原料,通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成由二硼化钛纳米陶瓷层与...
代伟高翔王启民
文献传递
一种自润滑二硼化钛/类金刚石涂层及其制备方法和应用
本发明公开了一种自润滑二硼化钛(TiB<Sub>2</Sub>)/类金钢石(DLC)硬质涂层及其制备方法。所述TiB<Sub>2</Sub>/DLC硬质涂层是采用双极脉冲磁控溅射沉积技术在基底上将TiB<Sub>2</S...
高翔代伟王启民
文献传递
一种化学随冷杯
本发明公开一种化学随冷杯,包括杯体、活动配合于杯体上的杯盖、位于杯体内部的混料腔和混料腔配合的可旋开关;所述混料腔内设有水和速冷混料;所述水位于可旋开关下方;所述速冷混料位于可旋开关上方。本发明提供的一种化学随冷杯降温速...
高翔洪典鑫胡玲刘铭恩马方子卉郑杰何燕
文献传递
一种自润滑二硼化钛/类金刚石涂层及其制备方法和应用
本发明公开了一种自润滑二硼化钛(TiB<Sub>2</Sub>)/类金钢石(DLC)硬质涂层及其制备方法。所述TiB<Sub>2</Sub>/DLC硬质涂层是采用双极脉冲磁控溅射沉积技术在基底上将TiB<Sub>2</S...
高翔代伟王启民
一种尺寸可调的半导体激光器烧结夹具
本发明公开了一种尺寸可调的半导体激光器烧结夹具,主要包括底座、压板、用于调整COS位置的COS限位卡座、用于调整热沉位置的热沉限位卡座、探针模块和热沉。使用时,先将COS限位卡座和热沉限位卡座安装到底座上的对应凹槽内,并...
周勇郝明明王云才高翔吴锦兴孙超
偏压对磁控溅射TiB_2涂层结构和性能的影响被引量:3
2017年
溅射镀膜过程中基体偏压对涂层的组织、结构和性能都有很重要的影响。本文采用脉冲磁控溅射技术在硬质合金基体上制备了TiB_2涂层,研究了不同衬底偏压(-50^-300 V)对涂层生长特性、结构和性能的影响。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、能谱仪、X射线光电子能谱仪、纳米划痕仪、维氏硬度计对涂层的物相结构、表面形貌、化学成分、以及机械性能进行了分析。结果表明:在所有偏压下制备出的TiB_2涂层都呈现出六方结构,并且表现为显著的(001)择优取向;随着偏压的逐渐增大,(001)衍射峰强度呈先增强后减弱的趋势;基体施加低偏压时制备出的TiB_2涂层呈现出粗大的柱状生长结构,这时涂层较为疏松,裂纹和缺陷较多,硬度为2829 HV;随着制备过程中基体偏压的升高,涂层中的柱状生长结构逐渐细化,涂层变得越来越致密。这使得涂层硬度得到大幅提高,在偏压为-250 V时达到最大硬度值3820 HV。但随着偏压进一步增大到-300 V时,由于剧烈轰击产生的缺陷增多,涂层硬度反而下降。
高翔代伟费加喜刘景茂王启民
关键词:TIB2涂层磁控溅射偏压机械性能
共3页<123>
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