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秦桂霞

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:南京电子器件研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇电子迁移率
  • 2篇迁移率
  • 2篇晶体管
  • 2篇高电子迁移率
  • 2篇高电子迁移率...
  • 1篇大信号
  • 1篇大信号模型
  • 1篇噪声系数
  • 1篇砷化镓
  • 1篇收敛性
  • 1篇沟道
  • 1篇非线性
  • 1篇Y型
  • 1篇GAAS_P...
  • 1篇GAN高电子...

机构

  • 2篇南京电子器件...

作者

  • 2篇韩克锋
  • 2篇秦桂霞
  • 1篇黄念宁
  • 1篇孔月婵
  • 1篇蒋浩
  • 1篇吴少兵

传媒

  • 1篇电子学报
  • 1篇固体电子学研...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
一种紧凑的GaN高电子迁移率晶体管大信号模型拓扑被引量:2
2018年
GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)以其复杂的器件特性使其大信号建模变得十分困难,尽管EEHEMT、Angelov等模型结构曾经成功应用于Ga As HEMT/MESFET的大信号模型,但当它们被用于GaN HEMT建模时却不再准确和完备.面向GaN HEMT器件的大信号模型,本文提出了一种紧凑的模型拓扑,此模型拓扑综合了GaN HEMT器件的直流电压-电流(I-V)特性、非线性电容、寄生参数、栅延迟漏延迟与电流崩塌、自热效应以及噪声等特性.经验证此模型拓扑在仿真中具有很好的收敛性,适用于GaN HEMT器件的大信号模型的建立,满足GaN基微波电路设计对器件模型的需求.
韩克锋蒋浩秦桂霞孔月婵
关键词:大信号模型非线性收敛性
0.15μm Y型栅高In沟道GaAs PHEMT低噪声器件设计
2015年
设计了一种GaAs PHEMT低噪声器件。通过电子束直写手段实现了0.15μm Y型栅,对栅型优化以减小器件栅电阻和栅寄生电容。采用高In含量的沟道设计以改善沟道电子输运特性,采用InGaAs/GaAs复合帽层以改善欧姆接触特性,并通过低噪声工艺流程制作了4×50μm GaAs PHEMT器件。测试结果表明,器件fT达到80GHz,在10GHz处最小噪声系数小于0.4dB,相关增益大于10dB。对于0.15μm栅长GaAs PHEMT器件来说,这是很好的结果。
韩克锋黄念宁吴少兵秦桂霞
关键词:噪声系数
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