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张凌

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文专利

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇抛光
  • 2篇抛光液
  • 2篇羰基铁
  • 2篇羰基铁粉
  • 2篇牺牲层
  • 2篇离子束
  • 2篇模压
  • 2篇磨料
  • 2篇SUB
  • 2篇磁流体
  • 1篇调平
  • 1篇修形
  • 1篇批量化
  • 1篇气管
  • 1篇球面
  • 1篇联通
  • 1篇螺帽
  • 1篇面形
  • 1篇磨具
  • 1篇口径

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇张凌
  • 3篇钟显云
  • 2篇杨金山
  • 2篇施春燕
  • 2篇万勇建
  • 2篇张亮
  • 2篇李良红
  • 1篇吴强

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2017
  • 1篇2015
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
一种适用于CaF<sub>2</sub>材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法
本发明公开了一种适用于CaF<Sub>2</Sub>材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法，磁流体抛光液主要由羰基铁粉、双相基载液、添加剂、PH调节剂及磨料组成。组合的质量分数分别为84％‑87％，9％‑12％，1％‑3...
钟显云万勇建杨金山李良红张凌
一种真空吸附加工工装与装卡方法
本发明公开了一种真空吸附加工工装与装卡方法，涉及光学元件的加工领域，解决了不同口径的光学元件在加工时需要多次制定加工工装，费材费时费力，以及普通真空吸附工装不能调平的问题。该加工工装由上真空吸附工装、气管、调节杆、下真空...
杨磊钟显云吴强张凌
文献传递
一种针对离子束牺牲层中高频误差抑制加工的复合牺牲层加工方法
本发明涉及一种针对离子束牺牲层中高频误差抑制加工的复合牺牲层加工方法，属于先进光学制造与检测领域。提出甩胶、模压和修形的三步骤方法，来实现元件的均匀甩胶，有效的提升了甩胶的均匀性，提升了离子束牺牲层加工中高频误差的有效性...
施春燕许力超张亮张凌
一种针对离子束牺牲层中高频误差抑制加工的复合牺牲层加工方法
本发明涉及一种针对离子束牺牲层中高频误差抑制加工的复合牺牲层加工方法，属于先进光学制造与检测领域。提出甩胶、模压和修形的三步骤方法，来实现元件的均匀甩胶，有效的提升了甩胶的均匀性，提升了离子束牺牲层加工中高频误差的有效性...
施春燕许力超张亮张凌
文献传递
一种适用于CaF<Sub>2</Sub>材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法
本发明公开了一种适用于CaF<Sub>2</Sub>材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法，磁流体抛光液主要由羰基铁粉、双相基载液、添加剂、PH调节剂及磨料组成。组合的质量分数分别为84％‑87％，9％‑12％，1％‑3...
钟显云万勇建杨金山李良红张凌
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