魏绍斌
- 作品数:1 被引量:0H指数:0
- 供职机构:航空航天部更多>>
- 相关领域:一般工业技术电气工程更多>>
- 应用离子注入技术改善航空用电接触材料耐磨性研究
- 1992年
- 为了改善航空用金基电接触材料的耐磨性,本文研究了以金镍为基的合金,进行了In^+、N^+的注入及TiN离子束增强沉积的试验。经基本性能测试及模拟试验表明,In^+的注入较为理想。 用注In^+的金基合金电刷,配金基合金绕组,装入航空电位器,作产品使用寿命试验,寿命达到一百万次以上,达到了国际先进水平。 用透射电镜对注In^+的表层进行结构分析表明,合金表层基体仍是以Au为基的固溶体,没有新相产生。但合金表面生成In_2O_3薄膜的,此膜为六方结构。晶格参数比C/α=3.163。此参数比具有较好的自润滑耐磨性的石墨还好。这是注入In^+后能使合金表层具有较好润滑耐磨性的主要原因。从衍射图中衍射斑晕环说明,In^+注入能使基体晶格产生较大的畸变,这也是使表面注入层硬度提高,增加耐磨性的原因之一。
- 何安莉屠明晖汤道坤魏绍斌周祖尧郑志宏董巍姚青芝蒋同春
- 关键词:耐磨性离子注入