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一种利用微波等离子体焊接金刚石真空窗口的方法: 本发明涉及金属与金刚石焊接领域。一种利用微波等离子体焊接金刚石真空窗口的方法，其特征在于包括如下步骤：第一步，将金属法兰和金刚石窗口清洗；第二步，金属法兰和金刚石窗口分别涂上焊料，然后将涂有焊料的面接触叠放，得到试样；第...; 马志斌张田田高攀; 文献传递

基于波导耦合反应腔串联的线形微波等离子体源的研究: 本文总结和比较了不同种类线形等离子体源的结构及应用，在此基础上结合波导耦合反应腔的优势，通过将两个波导耦合反应腔进行串联，设计了一种新型的线形同轴耦合微波等离子体源。　　研究课题的主要目的是针对长杆状基底材料的几何特征，...; 张田田; 关键词：均匀性

CVD单晶金刚石的二维扩大方法: 本发明涉及单晶金刚石材料的制造方法。一种CVD单晶金刚石的二维扩大方法，其特征在于包括如下步骤：a.选将单晶金刚石籽晶置于中心开有孔的衬底托之内，使得单晶金刚石籽晶暴露；衬底托由金属钼做成；b.将带有单晶金刚石籽晶的衬底...; 马志斌吴超黄宏伟张田田宋修曦; 文献传递

双侧波导同轴线耦合式线形微波等离子体源的研究: 2017年; 本文介绍了一种具有双侧波导同轴线耦合结构的新型微波等离子体源。通过电磁场模拟计算和等离子体发射光谱测量对同轴线耦合反应腔内部结构进行了优化,研究了线形等离子体源腔体结构对等离子体均匀性和长度的影响,并且在杆状样品表面进行了金刚石薄膜的沉积实验。实验结果表明:双侧波导同轴线耦合式新型线形等离子体源可以在引导天线表面产生圆柱状的线形等离子体,其等离子体的均匀性和长度受腔体内部结构的影响,在引导天线外径为4 mm,单侧模式匹配棒伸入量为10 mm的腔体结构下,等离子体的均匀性大于90%。通过对杆状样品表面不同位置处金刚石膜质量和等离子体沉积环境的测量,进一步验证了等离子体的均匀性。此外,线形等离子体的长度受引导天线长度和工作气压影响,这主要与反应腔内电磁场分布以及微波传输衰减有关。; 张田田马志斌黄宏伟王传新付秋明汪建华; 关键词：电磁场金刚石薄膜

基于波导耦合反应腔串联的线形微波等离子体源被引量：1: 2016年; 通过将两个波导耦合反应腔串联,得到了具有线形结构的微波等离子体源。利用光纤光谱仪沿等离子体轴向测量不同位置的等离子体发射光谱,对等离子体中不同基团的发射光谱强度进行了比较分析,研究了反应腔结构对等离子体均匀性的影响。实验结果表明:通过将波导耦合反应腔串联可以在引导天线表面产生圆柱状的线形等离子体,等离子体沿轴向的均匀性与引导天线外径尺寸和两端的模式转换棒的位置有关,当引导天线外径为4 mm,模式匹配棒伸入量为10 mm时,等离子体的不均匀性小于10%。; 张田田马志斌黄宏伟王传新付秋明汪建华; 关键词：等离子体诊断均匀性

杆状氧化铍表面金刚石薄膜的生长: 2015年; 利用一种新型线形微波等离子体源以甲烷和氢气为反应气体在135 mm×1 mm×0.5 mm杆状氧化铍表面沉积金刚石膜。研究了氧化铍基底预处理对金刚石形核密度和膜的连续性,以及基底温度对金刚石质量的影响。通过扫描电镜、拉曼光谱对沉积的金刚石膜表面形貌以及质量进行表征。实验结果表明:600#砂纸与金刚石粉混合预处理可以大大提高氧化铍表面金刚石的形核密度,得到连续性较好的金刚石薄膜;同时,基底温度不仅影响着金刚石膜的表面形貌,也影响着金刚石膜的质量。基底温度较低时,金刚石膜在沉积过程中二次形核增强,非金刚石相含量较高;提高沉积温度后,等离子体中H原子浓度增加,有利于金刚石质量的提高。; 张田田李国伟王传新付秋明黄宏伟马志斌; 关键词：化学气相沉积金刚石膜氧化铍

一种利用微波等离子体焊接金刚石真空窗口的方法: 本发明涉及金属与金刚石焊接领域。一种利用微波等离子体焊接金刚石真空窗口的方法，其特征在于包括如下步骤：第一步，将金属法兰和金刚石窗口清洗；第二步，金属法兰和金刚石窗口分别涂上焊料，然后将涂有焊料的面接触叠放，得到试样；第...; 马志斌张田田高攀; 文献传递

CVD单晶金刚石的二维扩大方法: 本发明涉及单晶金刚石材料的制造方法。一种CVD单晶金刚石的二维扩大方法，其特征在于包括如下步骤：a.选将单晶金刚石籽晶置于中心开有孔的衬底托之内，使得单晶金刚石籽晶暴露；衬底托由金属钼做成；b. 将带有单晶金刚石籽晶的衬...; 马志斌吴超黄宏伟张田田宋修曦; 文献传递

纳米金刚石膜真空窗口的制备: 金刚石膜与其它真空窗口材料相比,在较薄的条件下,具有较高的机械强度,因而非常适合作为真空窗口材料.本论文采用自制的微波等离子体化学气相沉积装置,以乙醇为碳源制备了金刚石膜,通过场发射扫描电镜(SEM)、X射线衍射、拉曼光...; 高攀马志斌吴超黄宏伟张田田; 关键词：微波等离子体化学气相沉积漏气率

MPCVD制备金刚石中的光谱分析被引量：1: 2017年; 在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)多晶金刚石的过程中,利用发射光谱法(OES)诊断等离子体中活性基团的分布情况,研究了沉积气压、CH_4体积分数以及气体流量对等离子体中基团谱峰强度的影响,讨论了相关基团与金刚石沉积速率和质量之间的关系.结果表明:在微波功率800 W下,气压从12 k Pa增加到16 k Pa,等离子体中各基团浓度均显著增加,有利于提高金刚石的沉积速率.气压16 k Pa、功率800 W时,CH_4体积分数从2%增加到7%,C_2基团峰值强度从12 600 cps增加到24 800 cps,而氢原子峰值强度从60 000 cps变为61 000 cps,导致C_2基团与氢原子浓度比值从0.21增加到0.40,金刚石的沉积速率虽然提高,但沉积质量下降.当沉积气压和CH_4体积分数分别从16 k Pa、4%提高到18 k Pa、6%时,C_2基团峰值强度从28 000 cps增加到37 000 cps,同时保持了C_2基团与氢原子浓度比值约0.28不变,既保证了金刚石沉积质量又显著提高了金刚石的沉积速率.等离子体体系中基团浓度基本不受气体流量变化的影响.; 黄宏伟张田田丁康俊马志斌付秋明; 关键词：微波等离子体化学气相沉积发射光谱活性基团

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张田田