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彭利荣

作品数:22 被引量:69H指数:5
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:机械工程化学工程金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 14篇专利
  • 8篇期刊文章

领域

  • 5篇机械工程
  • 4篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇理学
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 11篇抛光
  • 10篇光学
  • 7篇光学元件
  • 5篇抛光加工
  • 5篇自适
  • 5篇自适应
  • 5篇磨头
  • 3篇铣磨
  • 3篇离子束
  • 3篇光学元件加工
  • 3篇光学制造
  • 3篇非球面
  • 2篇定位装置
  • 2篇原位
  • 2篇条纹
  • 2篇球面
  • 2篇下表面
  • 2篇夹具
  • 2篇光学零件
  • 2篇非球面光学

机构

  • 22篇中国科学院长...
  • 1篇哈尔滨工程大...

作者

  • 22篇彭利荣
  • 14篇马占龙
  • 12篇隋永新
  • 10篇王高文
  • 10篇王飞
  • 9篇杨怀江
  • 6篇张健
  • 5篇代雷
  • 4篇谷勇强
  • 3篇王孝坤
  • 3篇罗霄
  • 2篇王绍治
  • 2篇张春雷
  • 2篇胡海翔
  • 2篇张学军
  • 2篇王东方
  • 1篇刘健
  • 1篇程强
  • 1篇彭石军
  • 1篇向阳

传媒

  • 3篇电子测量与仪...
  • 2篇中国光学
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇光学学报
  • 1篇发光学报

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2022
  • 3篇2017
  • 3篇2016
  • 6篇2015
  • 6篇2014
  • 1篇2013
22 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种内联式多气缸自适应抛光磨头
一种内联式多气缸自适应抛光磨头属于光学冷加工技术领域,目的在于解决现有技术存在的磨头应力分布不均及磨头弹性系数不可调节的问题。本发明包括法兰基座、气舱盖板、内联式多气缸结构和抛光磨头子单元;内联式多气缸结构包含多个上端相...
王飞马占龙彭利荣王高文隋永新
文献传递
应用离子束修正高精度CGH基底被引量:2
2016年
计算全息图(CGH)作为零位补偿器广泛应用于高精度非球面的检测中,但CGH的基底误差直接限制了非球面的检测精度。为了获得超高精度的CGH基底,提出了应用离子束修正CGH基底的加工工艺。采用不同束径的离子束去除函数对一边长152 mm(有效口径140 mm圆形区域)、厚6.35 mm的正方形熔石英CGH基底分别进行了精抛、精修和透射波前修正实验。经过总计7轮的迭代修正,最终获得了透射波前为PV值20.779 nm、RMS值0.685 nm的超高精度CGH基底。实验结果表明:应用离子束修正高精度CGH基底的加工工艺具有较大优势,不仅具有较高的加工效率而且可以获得超高的加工精度。
马占龙彭利荣王高文谷勇强
关键词:光学制造离子束计算全息图
一种光学元件铣磨用真空夹具
一种光学元件铣磨用真空夹具属于光学冷加工技术领域,目的在于解决现有技术存在的对工件直径公差要求严格和较薄光学元件铣磨过程中容易产生变形的问题。本发明包括真空夹具本体、密封圈、保护层、保护块和止动螺丝;真空夹具本体为圆柱形...
马占龙张健彭利荣王飞隋永新
文献传递
一种自适应抛光磨头
本发明公开了一种自适应抛光磨头,包括:法兰基座(1),在法兰基座(1)的下方于其同心装配有磨头基座(2),在磨头基座(2)的下表面分布设置有磨头单元(3),其中,所述磨头单元(3),包括,子基座(31)、子磨头(32)以...
王飞马占龙彭利荣王高文隋永新杨怀江
文献传递
多环形自适应抛光磨头
本发明公开了一种多环形自适应抛光磨头,属于光学冷加工技术领域。解决了现有非球面抛光技术中磨头表面与工件表面不匹配、无法抑制中频误差的问题。本发明的多环形自适应抛光磨头包括法兰轴、多环刚性基底、柔性环和抛光环,其中,法兰轴...
张健马占龙代雷彭利荣隋永新杨怀江
文献传递
抛光与原位检测装置及抛光加工方法
本发明涉及光学元件加工技术领域,涉及一种抛光与原位检测装置及抛光加工方法;装置包括工作台、抛光机构、原位检测装置及检测定位装置,检测定位装置设于工作台上;原位检测装置包括可翻转设在工作台上的检测支架、设在检测支架上的条纹...
王孝坤李凌众张学军彭利荣胡海翔罗霄李龙响
一种通用型光学元件抛光用真空夹具
一种通用型光学元件抛光用真空夹具属于光学冷加工技术领域,目的在于解决现有技术存在的结构复杂、通用性差和加工成本高的问题。本发明的一种通用型光学元件抛光用真空夹具包括真空夹具体和密封保护层;所述真空夹具体为一体式结构,所述...
马占龙王飞彭利荣隋永新杨怀江
文献传递
气囊抛光过程的运动精度控制被引量:9
2015年
针对用于球面、非球面光学元件超精密光学加工的气囊抛光技术,提出了一套控制抛光过程中气囊运动精度的方法。该方法通过控制加工单元的温度,保证抛光过程中设备运动精度达到50μm;使用坐标传递法,使检测数据二维方向对准不确定度达到0.30-0.70mm。另外,基于磨头去除量估计与反馈修正法,提高精抛过程面形误差收敛效率。最后,通过磨头探测校准法,将磨头与加工工件法向位置精度提高至10μm。实际抛光实验显示:使用运动精度控制法在280mm口径的平面精密抛光中获得的面形加工精度为0.8nm(RMS),在160mm口径的凹球面精密抛光中获得的面形加工结果为1.1nm(RMS),实现了超高精度面形修正的目的,为超高精度球面、非球面光学元件加工提供了一套行之有效的方法。该方法同样适用于其他接触式小磨头数控抛光方法。
王飞张健彭利荣王高文隋永新
关键词:光学加工气囊抛光
光学元件夹具
本发明公开了一种光学元件夹具,用于对待加工的光学元件进行夹持,包括主体和限位部,主体包括安装面和与安装面相对的连接面,限位部凸设于安装面上,主体上开设有贯通安装面和连接面的至少一个抽气孔;光学元件设置于安装面上,且限位部...
彭利荣王飞隋永新杨怀江
文献传递
一种超精密磨削磨头及其使用方法
本发明涉及一种超精密磨削磨头及其使用方法,属于光学先进制造领域,以解决大中型平面镜加工中铣磨面形收敛差、亚表面损伤层深、后续抛光效率低的问题。该超精密磨削磨头包括圆饼状的基底,含金刚石微粉的圆饼状丸片,具有导流作用的中空...
彭利荣马占龙赵越朱峰隋永新杨怀江
文献传递
共3页<123>
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