侯晶
- 作品数：91 被引量：130H指数：8
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项中国工程物理研究院横向合作研究课题更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程电子电信理学更多>>
- 用于背光照明的大口径连续相位板设计和制作
- 连续相位板是大型激光装置中用于控制光束形状、能量和波前分布的一种重要衍射光学元件。为改善聚焦光束的质量,建立了基于现有工艺的大口径连续相位板理论设计模型,优化了传统衍射元件设计算法。采用该算法设计了用于背光照明的Ф330...
- 温圣林侯晶杨春林颜浩石琦凯周礼书
- 关键词：惯性约束聚变
- 文献传递
- 圆弧金刚石砂轮三维几何形貌的在位检测和误差评价被引量：5
- 2017年
- 针对非球面光学元件加工对圆弧金刚石砂轮形状误差测量的需求,提出了砂轮三维几何形貌在位检测与误差评价方法。建立了砂轮外圆面螺旋扫描轨迹测量数学模型,利用位移传感器获取了砂轮表面轮廓数据;对得到的数据匀滑滤波后沿圆周展开并进行插值处理,得到砂轮三维几何形貌。然后,根据非球面平行磨削加工特点,提出评价圆弧砂轮形状精度的指标。通过提取三维几何形貌轴截面轮廓,进行最小二乘圆弧拟合得到不同相位处的圆弧半径与圆心坐标,并由误差分离获得砂轮表面圆弧的圆度误差、圆周跳动误差及轮廓圆心轴向偏差。最后,对非球面加工圆弧金刚石砂轮进行检测,获得了砂轮的三维几何形貌以及多个关键尺寸及其误差数据:即圆弧金刚石砂轮的平均圆弧半径为55.442 3mm,半径波动极差为0.16mm,中央±8mm环带内圆弧的圆度误差约为5μm,圆周跳动误差约为2μm,截面轮廓圆心轴向位置相对偏差为0.008mm。根据检测结果,进行了大口径复杂非球面磨削实验,得到的元件面形P-V值为4.62μm,RMS值优于0.7μm,满足工程的实际需求。
- 周炼安晨辉侯晶陈贤华王健
- 大气等离子体加工大口径非球面光学元件的对刀装置
- 本发明提供一种高精度的大气等离子体加工大口径非球面光学元件的对刀装置，空气压缩机、储气罐、过滤器、电磁阀、调速阀和气动滑台之间依次通过气管连接，所述气动滑台安装在支撑架上，所述气动滑台端部连接触发测头，所述触发测头的上下...
- 金会良张清华邓文辉唐才学徐曦袁志刚侯晶陈贤华
- 文献传递
- 板条Nd:YAG晶体的合成盘抛光技术被引量：4
- 2014年
- 针对高功率板条激光器核心工作器件——板条Nd:YAG晶体的超精密加工开展研究,分析了具有特殊构型的板条Nd:YAG晶体元件的加工性能及工艺难点,提出了一种新的基于合成盘抛光的板条Nd:YAG晶体加工工艺,并对规格为100mm×30mm×3mm的板条Nd:YAG晶体进行了加工实验。实验结果表明,合成盘抛光可以很好地控制元件的塌边现象;通过磨料的优化选择,在合成盘抛光工艺中匹配合适粒度的Al2O3磨料能够实现元件的低缺陷加工,元件下盘后的全反射面平面度达0.217λ(1λ=632.8nm),端面平面度达到0.06λ,表面粗糙度达0.55nm(RMS),端面楔角精度可达2″。
- 谢瑞清廖德锋王晓博袁志刚钟波陈贤华王健雷向阳侯晶
- 关键词：板条激光器抛光面形粗糙度
- 大口径平面光学元件的磁流变加工被引量：10
- 2016年
- 为了实现大口径平面光学元件的高精度加工,开展了磁流变加工技术的研究。介绍了磁流变加工原理及去除函数的数学模型。根据磁流变加工的特点,建立了元件整体加工的工艺流程,给出了元件加工的工艺要素。然后,开发了抛光斑的提取软件,并基于轨迹段划分的速度模式开发了工艺软件,分析了工艺软件的各项功能模块。最后,基于元件加工的工艺流程,对一件800mm×400mm的元件进行了加工实验。利用检测设备测得了元件的低、中、高频的加工指标,其低频反射波前PV值为34nm,中频波前功率谱密度(PSD1)值为1.7nm,高频粗糙度Rq值为0.27nm。实验显示了较好的实验结果,验证了利用磁流变加工技术实现了大口径光学元件的高精度加工的可行性。本文还阐述了磁流变加工技术在高功率激光元件中应用的优点。
- 侯晶王洪祥陈贤华谢瑞清邓文辉唐才学
- 关键词：平面光学元件抛光面形精度高功率激光器
- 一种大口径光学元件复杂周期波纹误差匀滑方法、装置及系统
- 本发明适用于光学元件的匀滑技术领域，本发明在常见模型的基础上进行补充和修正，提出了一种适用于大口径光学元件复杂周期波纹误差匀滑的多参数匀滑方法，包括以下步骤：步骤H1：对光学元件进行子区域划分；步骤H2：计算各子区域初始...
- 许乔侯晶陈贤华刘世伟郑楠李海波王健张清华刘民才钟波邓文辉
- 文献传递
- 二维随机振动抛光机床及其抛光方法
- 本发明提供了一种二维随机振动抛光机床及其抛光方法，涉及抛光技术领域。该二维随机振动抛光机床包括第一振动组件、第二振动组件、抛光组件和控制器，控制器控制第一振动组件、第二振动组件能够以随机的频率分别驱动抛光组件沿X、Y方向...
- 钟波陈贤华许乔王健张清华邓文辉侯晶刘民才
- 文献传递
- 基于双磨头的磁流变抛光机床与工艺研究被引量：2
- 2014年
- 针对传统单磨头磁流变抛光技术的不足,提出了一种新的双磨头磁流变抛光方法,并研制了一台八轴数控双磨头磁流变抛光机,具备了大口径平面、非球面及连续位相板的超精密、高效率加工能力。分别研究了大、小磨头材料去除特性及面形修正能力,不仅获得了稳定、有效的大、小抛光斑,而且获得了超精的大、小平面工艺样件。50mm小平面经小磨头一次连续抛光,在45mm内其面形精度PV由0.21λ收敛至0.08λ、RMS由0.053λ收敛至0.015λ;430mm×430mm大平面经大磨头3次迭代抛光,在410mm×410mm内其面形精度PV由0.4λ收敛至0.1λ、RMS由0.068λ收敛至0.013λ。由此表明,所研制的双磨头磁流变抛光机床具有较好的材料去除特性和较强的面形修形能力。
- 黄文张云飞郑永成罗清侯晶袁志刚
- 光学元件精密加工中的磁流变抛光技术工艺参数被引量：10
- 2013年
- 为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对抛光结果的影响规律,以期提高元件的面形精度和表面的质量,在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基础上,结合实验室的PKC100-P1型抛光设备,对上述的关键工艺参数分别进行了研究,设置了一系列的实验参数,进行了详细的实验探索,分析了单因素条件下材料的去除量以及元件表面质量同关键工艺参数的内在联系,得出了相应影响关系曲线。从关系曲线表明:工艺参数对抛光斑的去除效率以及被加工元件表面质量存在着明显的影响规律,掌握这些影响关系就能用于分析和优化磁流变加工的结果,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障,同时实验的结果也很好地验证了磁流变抛光材料去除理论的正确性。
- 秦北志杨李茗朱日宏侯晶袁志刚郑楠唐才学
- 关键词：磁流变抛光去除函数磁流变液
- 用于光束匀滑的连续相位板近场均匀性被引量：9
- 2011年
- 为降低高功率激光系统中连续相位板(CPP)后续元件的强激光损伤风险,综合考虑入射光强调制、干涉及衍射作用等多种影响因素,建立了CPP近场计算分析模型,模拟和分析了这些因素对CPP后的近场均匀性的影响。理论分析结果表明:CPP后的光束近场均匀性主要受入射光调制、CPP表面剩余反射率和衍射传输距离的影响;当入射光束质量较差时,CPP后的近场均匀性主要由入射光束质量决定,CPP剩余反射率和衍射传输距离对近场均匀性影响相对较小;但当光束质量比较理想时,干涉和衍射作用会破坏CPP的近场均匀性,衍射传输距离影响尤为突出。
- 温圣林侯晶杨春林颜浩马平周礼书
- 关键词：近场光束质量惯性约束聚变
