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吴健

作品数：17 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 17篇中文专利

主题

  • 8篇基板
  • 4篇液晶
  • 3篇调节装置
  • 3篇液晶显示
  • 3篇传动
  • 3篇传送
  • 2篇倒退
  • 2篇循环利用
  • 2篇液晶显示器
  • 2篇湿法
  • 2篇湿法刻蚀
  • 2篇收发
  • 2篇水资源
  • 2篇透光性
  • 2篇显示器
  • 2篇刻蚀
  • 2篇刻蚀设备
  • 2篇溅射
  • 2篇供水
  • 2篇管路

机构

  • 17篇北京京东方光...

作者

  • 17篇吴健
  • 1篇章志兴
  • 1篇张宇昊

年份

  • 2篇2015
  • 1篇2013
  • 3篇2012
  • 7篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
共 17 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
基板位置检测方法及装置
本发明实施例公开了一种基板位置检测方法及装置，所述基板位置检测装置包括：设置于反应腔内的支撑设备，所述支撑设备上架设有至少一套底部设有反光板的摆动设备，所述每套摆动设备随基板位置变化而摆动，所述反应腔外对应于所述反光板的...
吴健
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基板清洗系统
本发明提供了一种基板清洗系统，涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域，能够对水资源进行循环利用，减少了废水的排放，节省了水资源。其中基板清洗设备，包括第一水供给单元、第二水供给单元。所述第一水供给单元、第二水供给单元都与所述第...
吴健
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一种滚轮装置和传动设备
本实用新型公开了一种滚轮装置和传动设备，涉及机械技术领域，为能够有效避免磁力消退导致的被传动物的倒退现象而设计。本实用新型提供的滚轮装置，包括：滚轮、固定盘和固定轴，所述滚轮可转动地设置在所述固定轴上，所述固定盘固定设置...
吴健
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基板位置检测方法及装置
本发明实施例公开了一种基板位置检测方法及装置，所述基板位置检测装置包括：设置于反应腔内的支撑设备，所述支撑设备上架设有至少一套底部设有反光板的摆动设备，所述每套摆动设备随基板位置变化而摆动，所述反应腔外对应于所述反光板的...
吴健
支撑部件的辅助支持装置以及搬运设备
本实用新型实施例公开了一种支撑部件的辅助支持装置以及搬运设备，涉及电子技术领域。解决了现有的搬运设备的维护成本高、维护过程耗费时间多的技术问题。该支撑部件的辅助支持装置，包括支持部件以及可拆卸固定机构，可拆卸固定机构能够...
吴健
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基板清洗系统
本发明提供了一种基板清洗系统，涉及薄膜晶体管液晶显示器制造领域，能够对水资源进行循环利用，减少了废水的排放，节省了水资源。其中基板清洗设备，包括第一水供给单元、第二水供给单元。所述第一水供给单元、第二水供给单元都与所述第...
吴健
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一种板材吸取装置
本实用新型公开了一种板材吸取装置，包括主臂、装设于主臂上并可相对转动的吸取架、两个距离感应器件、自调整电机、自调整控制单元，其中，所述两个距离感应器件装设于所述吸取架上的不同位置，且所述两个距离感应器件的连线不与吸取架转...
吴健
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一种湿法刻蚀设备及方法
本发明公开了一种湿法刻蚀设备及方法，用于提高湿法刻蚀系统的工艺工程能力，降低出现产品不良的概率。其中，所述湿法刻蚀设备包括多个并列的腔体压力喷射单元(30)，每一个腔体压力喷射单元(30)包括传动轮(301)、调节装置(...
吴健
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基板传动装置
本实用新型提供一种基板传动装置，包括主传动系统，还包括辅助传动系统；所述辅助传动系统包括：防滑带驱动电机、防滑带传动杆、防滑带、防滑带突起拨片和防滑带启动定位传感器；数个防滑带传动杆与所述主传动杆平行设置，两端分别连接于...
吴健
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基板对位装置、基板传送平台及系统
本实用新型提供一种基板对位装置、基板传送平台及系统，其中，基板对位装置包括：安装支架，气缸体，活塞运动部件，滑动部件，还包括：数个制动孔，设置在所述滑动部件的上表面，且位于所述活塞运动部件的侧边；制动装置，固定设置在所述...
吴健
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