您的位置： 专家智库 > >

文武

作品数：2 被引量：15H指数：2
供职机构：北京化学试剂研究所更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇光刻
  • 2篇光刻胶
  • 1篇ULSI

机构

  • 2篇北京化学试剂...

作者

  • 2篇黄志齐
  • 2篇文武
  • 2篇郑金红
  • 1篇陈昕
  • 1篇焦小明
  • 1篇王艳梅
  • 1篇杨澜

传媒

  • 1篇感光科学与光...
  • 1篇精细化工

年份

  • 2篇2005
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
ULSI用193nm光刻胶的研究进展被引量：12
2005年
从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
郑金红黄志齐文武
关键词：光刻胶
193nm光刻胶的研制被引量：8
2005年
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性.
郑金红黄志齐陈昕焦小明杨澜文武高子奇王艳梅
关键词：光刻胶
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0