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文献类型

  • 1篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇电容
  • 2篇电容器
  • 1篇镀层
  • 1篇自愈
  • 1篇金属
  • 1篇金属镀层
  • 1篇金属化薄膜
  • 1篇金属化膜
  • 1篇基膜
  • 1篇方阻

机构

  • 2篇安徽铜峰电子...

作者

  • 2篇周慧宁
  • 2篇王勇
  • 2篇陈静
  • 2篇王晨
  • 1篇武涛
  • 1篇付强

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
渐变方阻金属化薄膜
王晨王勇周慧宁陈静石兆峰朱永伦付强武涛方全义
该项目采用薄膜表面被蒸镀的锌层厚度渐变的方法,在高真空状态下首先用铝在基材表面形成均匀铝层。该铝层与基材形成共价键,然后再以锌在铝层上形成厚薄逐渐变化的锌层。因渐变方阻金属化膜的这一特点,其抗电强度较普通金属化膜可提高1...
关键词:
关键词:电容器
一种渐变方阻金属化膜和包含该金属化膜的电容器
本发明一种渐变方阻金属化膜和包含该金属化膜的电容器,其渐变方阻金属化膜,包括聚合物基膜,和在该基膜上形成的由Al和Zn构成的金属镀层,镀层的厚度在基膜宽度方向由两侧向中间逐渐加厚,使得其方阻由两侧向中间逐渐减小。用该金属...
王晨王勇周慧宁陈静
文献传递
共1页<1>
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