张权林 作品数:19 被引量:3 H指数:1 供职机构: 中山大学 更多>> 发文基金: 国家自然科学基金 国家重点基础研究发展计划 更多>> 相关领域: 电子电信 理学 金属学及工艺 更多>>
ZnO基薄膜材料发光特性研究 王玉超 吴天准 苏龙兴 陈明明 张权林 袁丽芳 汤子康关键词:ZNO 分子束外延 光致发光 拉曼光谱 BeZnO基紫外探测器 张权林 陈明明 苏龙兴 桂许春 吴天准 项荣 汤子康ZnO单晶和BeZnO合金的生长及其紫外探测器研究 2015年 用分子束外延(MBE)的方法在c面蓝宝石衬底上生长出了高质量的ZnO单晶薄膜和BexZn1-xO合金薄膜。X射线光电子能谱(XPS)测试结果表明,合金材料中Be元素的摩尔分数分别为1.8%、4.9%、8.0%和15.3%。在此基础上制备了ZnO基和BexZn1-xO基的金属-半导体-金属(MSM)结构紫外探测器。ZnO单晶探测器的响应波长为375nm,在1V电压下,350nm处的光响应度高达43A/W,光电流和暗电流之比达到105量级。在BexZn1-xO基紫外探测器中,其截止响应波长随着合金中Be含量的增加逐渐蓝移,其中Be0.153-Zn0.847O合金探测器的截止响应波长为366nm,紫外波段和可见波段的光电流之比达到2~3个数量级,具有良好的信噪比。此外,提出了氧气等离子体表面处理降低探测器暗电流的方法,并使ZnO单晶探测器的暗电流降低了4个数量级。 王玉超 张权林 苏龙兴 沈正川 吴天准 汤子康关键词:ZNO单晶 紫外探测器 表面处理 分子束外延 BeMgZnO基同质p-n结构紫外探测器及制法 本发明公开了一种BeMgZnO基同质p-n结构紫外探测器,包括衬底、衬底上沉积有缓冲层,缓冲层上生长有n型薄膜层,n型薄膜层上生长有p型薄膜层;n型薄膜层上制作有金属电极的负极,p型薄膜层上生长有金属电极的正极;n型薄膜... 汤子康 祝渊 苏龙兴 张权林 陈明明 陈安琪 桂许春 项荣 吴天准文献传递 n-ZnO/i-ZnO/p-GaN异质结紫外探测器研究 2016年 本文在传统的半导体外延工艺上生长了氮化镓Ga N和氧化锌Zn O两种第三代宽禁带半导体薄膜,并在此基础上通过半导体器件工艺制备了n-Zn O/i-Zn O/p-Ga N异质结紫外探测器,I-V曲线和光响应度测试,器件显示了较低的反偏压漏电流和较强的紫外波段的光响应电流,优秀的性能充分地展示了该异质结探测器在军、民用中有着重要的应用前景。 张权林关键词:氮化镓 氧化锌 紫外探测器 MgZnO半导体材料光致发光以及共振拉曼光谱研究 2013年 用分子束外延设备在c面蓝宝石衬底上生长得到高质量Mg x Zn1-x O薄膜。X射线衍射显示,当Mg摩尔分数在0~32.7%范围内时,薄膜保持六方结构,(002)衍射峰半高宽为0.08°~0.12°,薄膜结晶质量与现有报道的最高水平相当。随着薄膜中Mg含量的增加,紫外发光峰由378 nm蓝移至303 nm。对Mg0.108Zn0.892O薄膜变温光致发光光谱的研究发现,束缚激子发光随温度变化存在两个不同的猝灭过程。对不同Mg含量薄膜共振拉曼光谱的研究发现,A1(LO)声子模频移与Mg含量在一定范围内呈线性关系,这为确定Mg x Zn1-x O薄膜中的Mg含量提供了一种简单高效的方法。通过拉曼光谱与X射线衍射对比研究发现,拉曼光谱在确定MgZnO材料相变时具有更高的灵敏度。最后,研究了Mg0.057Zn0.943O薄膜的变温共振拉曼光谱,对A1(LO)和A1(2LO)声子模随温度而变化的现象给出了一定的理论解释。 王玉超 吴天准 张权林 陈明明 苏龙兴 汤子康关键词:MGXZN1-XO 分子束外延 光致发光 共振拉曼光谱 一种p型导电氧化锌薄膜材料及制备方法 本发明公开了一种p型导电氧化锌薄膜材料,其包括衬底及生长于衬底上的外延层,自衬底至外延层之间依次设有金属镁层、氧化镁层、生长温度逐渐升高的第一氧化锌层与第二氧化锌层;外延层为在氧化锌合金中掺入受主元素B和掺入A原子形成的... 汤子康 陈明明 苏龙兴 张权林 祝渊 吴天准 桂许春 项荣ZnO基紫外探测器的新型材料缓冲层设计及表面处理 张权林 吴天准 苏龙兴 陈明明 项荣 祝渊 桂许春 汤子康关键词:ZNO薄膜 紫外探测器 表面处理 在c-面蓝宝石上控制生长高质量的ZnO单晶薄膜 2015年 利用Mg O和低温Zn O的缓冲层技术,在c面蓝宝石衬底上用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)的方法生长了高质量的Zn O单晶薄膜。通过XRD测试,Zn O薄膜样品具有c轴方向的择优取向,其(002)方向摇摆曲线的半高宽(FWHM)仅为68.4 arcsec,(102)方向摇摆曲线的半高宽(FWHM)为1 150 arcsec,显示了外延薄膜极高的晶体质量。另外从扫描电子显微测试结果和原子力显微测试结果来看,Zn O薄膜具有极为平整的表面,3μm×3μm面积内的均方根粗糙度仅为0.842 nm,接近原子级的平整。拉曼光谱(Raman)和荧光光谱(PL)测试结果显示,Zn O薄膜样品内部的应力基本释放,而且具有极低的点缺陷密度。高质量Zn O单晶薄膜的实现为Zn O基的光电器件的制备提供了坚实的基础。 张权林 苏龙兴 吴天准 王玉超 祝渊 陈明明 桂许春 汤子康关键词:缓冲层 应力 ZNO 一种提高异质外延层晶体质量的方法 本发明属于纳米材料外延技术领域,具体公开一种提高异质外延层晶体质量的方法。本发明在衬底上先外延生长Mg/MgO复合缓冲层,充当晶格失配较大的衬底与ZnO外延薄膜中间的过渡缓冲角色,因而可以极大提高异质外延层晶体质量,同时... 汤子康 吴天准 张权林 王玉超 苏龙兴 陈明明 祝渊 桂许春 项荣文献传递