公共文化服务平台

共 7 条记录，以下是 1-7

全选清除导出

排序方式：

一种利用粒子束调控技术制备多孔掺杂类金刚石薄膜的方法: 一种利用粒子束调控技术制备掺杂多孔类金刚石(DLC)薄膜的方法，属于无机纳米材料领域。该发明利用磁过滤阴极弧沉积装置，以镍源为阴极，以含碳气体为前驱气体，在一定的粒子束参数条件下沉积碳基镍纳米复合薄膜，其结构为镍金属颗粒...; 张旭周晗吴先映廖斌英敏菊; 文献传递

一种利用粒子束调控技术制备多孔掺杂类金刚石薄膜的方法: 一种利用粒子束调控技术制备掺杂多孔类金刚石(DLC)薄膜的方法，属于无机纳米材料领域。该发明利用磁过滤阴极弧沉积装置，以镍源为阴极，以含碳气体为前驱气体，在一定的粒子束参数条件下沉积碳基镍纳米复合薄膜，其结构为镍金属颗粒...; 张旭周晗吴先映廖斌英敏菊

磁过滤阴极弧法制备的非晶金刚石厚膜: 磁过滤阴极弧沉积技术可以在室温下制备高质量类金刚石薄膜,薄膜的sp3键含量高达85％,具有优异的性能如极高的硬度,低的摩擦系数和高的化学稳定性,因而是耐磨表面保护薄膜的理想选择,在光学、机械、航空航天和军工等领域有着广阔...; 侯庆艳沈永青周晗肖天庆王宇东廖斌张旭; 关键词：力学性能

双弯管磁过滤阴极真空弧技术沉积超厚多层钛掺杂类金刚石膜被引量：4: 2018年; 极端工况对关键部件涂层的性能要求较高,作为常用涂层,薄类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)膜因其厚度的局限性已不能满足日益增长的性能需求,因此超厚DLC膜的制备工艺具有较大的现实意义。采用双弯管磁过滤阴极真空弧沉积技术制备多层Ti掺杂DLC膜,并通过显微维氏硬度计、摩擦磨损试验仪、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、X光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)等对膜的结构和性能进行表征。结果表明:薄膜的沉积速率最高可达0.40μm/min;随着沉积过程中C2H2流量的增加,Ti掺杂DLC膜中超硬Ti C相的相对含量降低,因此导致膜硬度降低,同时热稳定性变差;通过金属掺杂以及多层复合结构的方法能够有效制备低内应力的DLC膜,同时实现超厚DLC膜(最高可达42.3μm)的制备。; 姜其立王浩琦周晗庞盼刘建武刘建武; 关键词：C2H2

The structure and mechanicalproperties of Ni/α-C:Hflims deposited by flitteredcathodic vacuum arc device: Nickel/carbon nanocomposite films have been deposited by filtered cathodic vacuum arc(FCVA)device with varying...; 周晗

基于原子发射光谱的TiC等离子体沉积诊断: 对通过磁过滤阴极真空弧(FCVA)获得的高密度、高离化率的等离子体进行诊断.为研究C2H2气流量对磁过滤阴极弧产生的等离子体的影响,采用原子发射光谱(OES)法对FCVA沉积过程中产生的TiC等离子体进行诊断.利用Sah...; 周晗周福增伏开虎黄杰陈琳廖斌张旭; 关键词：原子发射光谱; 文献传递

基于原子发射光谱的TiC等离子体沉积诊断: 2015年; 对通过磁过滤阴极真空弧(FCVA)获得的高密度、高离化率的等离子体进行诊断。为研究C2H2气流量对磁过滤阴极弧产生的等离子体的影响,采用原子发射光谱(OES)法对FCVA沉积过程中产生的Ti C等离子体进行诊断。利用Saha-Boltzmann方法对不同气流量下等离子体的参数进行计算,并对等离子体产生过程中的谱线强度随气流量变化的机制进行研究。结果表明,等离子体电离度较高,约为0.8左右且随气流量的变化不大;电子温度和电子密度分别在1×10~4～2×10~4K和10^(23)～10^(24)m^(-3)范围内变化,且随着气流量的增加呈现出先增大后减小的变化趋势;Ti粒子谱线相对强度随气流量的变化不大,表明Ti粒子大部分在阴极弧斑附近被离化。; 周晗周福增伏开虎黄杰黄杰陈琳陈琳; 关键词：原子发射光谱等离子体诊断

全选清除导出

共1页<1>

周晗