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庄克文

作品数:21 被引量:15H指数:3
供职机构:天津津航技术物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 11篇专利
  • 8篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 10篇理学
  • 4篇机械工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 11篇红外
  • 9篇光学
  • 4篇导电薄膜
  • 4篇电子束蒸发
  • 4篇镀膜
  • 4篇镀膜技术
  • 4篇真空镀
  • 4篇真空镀膜
  • 4篇真空镀膜技术
  • 4篇透明导电
  • 4篇透明导电薄膜
  • 4篇硫系玻璃
  • 4篇膜层
  • 4篇光学薄膜
  • 3篇数对
  • 3篇透过率
  • 3篇离子束
  • 3篇离子束溅射
  • 3篇溅射
  • 3篇红外波段

机构

  • 21篇天津津航技术...
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇浙江大学
  • 1篇成都七中

作者

  • 21篇庄克文
  • 18篇刘华松
  • 17篇季一勤
  • 11篇冷健
  • 7篇刘丹丹
  • 7篇尚鹏
  • 4篇姜玉刚
  • 3篇赵志宏
  • 3篇洪伟
  • 2篇孙鹏
  • 1篇陈德应
  • 1篇沈伟东
  • 1篇张锋
  • 1篇刘旭
  • 1篇余俊宏

传媒

  • 7篇红外与激光工...
  • 1篇物理学报
  • 1篇二〇〇六年全...
  • 1篇2006年全...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 2篇2022
  • 2篇2021
  • 3篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 2篇2014
  • 3篇2013
  • 3篇2006
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
弱吸收单面薄膜光学特性的表征方法被引量:1
2013年
光谱法是测量光学薄膜光学性能的重要方法之一,能够直接表征薄膜-基底系统的光学特性,如:反射率、透过率和吸收率。通过研究薄膜-基底系统的光传输特性,推导出在基底具有弱吸收的一般条件下薄膜-基底系统反射率、透射率和吸收率的表达式,确定了通过测量单面和双面抛光基底及其薄膜特性间接获得薄膜单面光学特性的方法;在实验中使用Lambda-900分光光度计对熔融石英基底的HfO2薄膜进行了测试,并通过测量误差分析,薄膜的单面反射率误差为1.00%,单面透过率的误差为0.601%。研究结果表明文中方法可适用于各类薄膜单面特性的表征与评价。
刘华松傅翾王利栓姜玉刚冷健庄克文季一勤
关键词:光学特性
硫系玻璃基底激光、中波红外、长波红外复合减反射薄膜
本发明涉及一种硫系玻璃基底激光、中波红外、长波红外三谱段复合减反射薄膜及其制备方法,属于真空镀膜技术领域。本发明通过膜系设计、过渡层筛选及工艺优化等手段在硫系玻璃基底上实现1.064μm、3.7μm‑4.8μm及8μm‑...
冷健刘华松季一勤庄克文刘丹丹
文献传递
一种红外透明导电薄膜掺杂方法
本申请提供有一种红外透明导电薄膜掺杂方法,通过将掺杂材料和薄膜材料蒸发沉积,形成稳定的掺杂材料雾化层和导电薄膜沉积层;薄膜材料蒸发的粒子上升过程中与掺杂材料雾化层中的粒子之间反复碰撞、复合,实现掺杂材料与薄膜材料的大范围...
尚鹏刘华松庄克文邢宇哲
文献传递
内嵌式金属网栅的电磁屏蔽光学窗制备方法
本发明属于电磁屏蔽实现技术领域,具体涉及一种内嵌式金属网栅的电磁屏蔽光学窗制备方法。该方法包含:(1)通过物理和化学方法清洗光学窗表面;(2)采用电子束蒸发方法生长制备Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>...
尚鹏刘华松庄克文季一勤邢宇哲
文献传递
一种宽带大角度减反射红外光学多层膜
本发明公开了一种宽带大角度减反射红外光学多层膜的结构,其中,包括:基底以及四层膜结构,四层膜结构包括:第四层用于硬质保护膜用在红外波段,起到保护窗口的功能,第三层为低折射率材料,第二层为高折射率材料,第一层为中间折射率材...
刘华松孙鹏冷健庄克文季一勤
文献传递
一种硫系玻璃基底低剩余反射率减反射薄膜及其制备方法
本发明涉及一种硫系玻璃基底低剩余反射率减反射薄膜及其制备方法,属于真空镀膜技术领域。本发明通过膜系设计及工艺优化等手段在硫系玻璃基底上实现7.5μm‑10.5μm波段平均透过率大于98%,平均剩余反射率小于0.3%的低剩...
冷健刘华松季一勤庄克文何家欢
文献传递
不同沉积工艺参数对YF3膜层应力的影响
薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提.YF3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.本文通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理...
庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
关键词:红外光学薄膜工艺参数
文献传递
一种中波红外透明电磁屏蔽薄膜及制备方法
本发明提供了一种中波红外透明电磁屏蔽薄膜及制备方法,用以解决现有的P型红外透明半导体薄膜导电性较差、载流子浓度较低以及中波红外透过率低的问题。所述电磁屏蔽薄膜制备方法,通过基底清洗、薄膜沉积和对沉积薄膜后的基底进行退火处...
刘华松尚鹏刘丹丹庄克文邢宇哲
文献传递
不同沉积工艺参数对YF_3膜层应力的影响被引量:3
2006年
薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提。YF_3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理条件对 YF_3膜层应力的影响,分析了 YF_3膜层的应力随所选定工艺参数的变化规律.
庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
关键词:应力红外光学薄膜
硫系玻璃基底激光、中波红外、长波红外复合减反射薄膜
本发明涉及一种硫系玻璃基底激光、中波红外、长波红外三谱段复合减反射薄膜及其制备方法,属于真空镀膜技术领域。本发明通过膜系设计、过渡层筛选及工艺优化等手段在硫系玻璃基底上实现1.064μm、3.7μm‑4.8μm及8μm‑...
冷健刘华松季一勤庄克文刘丹丹
共3页<123>
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