洪伟
- 作品数：9 被引量：17H指数：3
- 供职机构：天津津航技术物理研究所更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程更多>>
- 不同沉积工艺参数对YF3膜层应力的影响
- 薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提.YF3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.本文通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理...
- 庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
- 关键词：红外光学薄膜工艺参数
- 文献传递
- 不同沉积工艺参数对YF_3膜层应力的影响被引量：3
- 2006年
- 薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提。YF_3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理条件对 YF_3膜层应力的影响,分析了 YF_3膜层的应力随所选定工艺参数的变化规律.
- 庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
- 关键词：应力红外光学薄膜
- 获取多晶体光学硒化锌的方法
- 本发明属于光学介质工艺领域，即获得多晶体光学材料的方法，具体是获取多晶体光学硒化锌的方法。这种制备多晶体光学硒化锌的方法主要它包括原料的加热和蒸发，蒸汽冷凝到加热的衬底上，原材料是在1050-1150℃温度下进行蒸发的，...
- 季一勤张荣实洪伟郭嘉辉加里宾.E.A古谢夫.P.E杰米坚科.A.A杜纳耶夫.A.A米罗诺夫.I.A
- 文献传递
- 获取多晶体光学硒化锌的方法
- 本发明属于光学介质工艺领域，即获得多晶体光学材料的方法，具体是获取多晶体光学硒化锌的方法。这种制备多晶体光学硒化锌的方法主要它包括原料的加热和蒸发，蒸汽冷凝到加热的衬底上，原材料是在1050-1150℃温度下进行蒸发的，...
- 季一勤张荣实洪伟郭嘉辉加里宾.E.A古谢夫.P.E杰米坚科.A.A杜纳耶夫.A.A米罗诺夫.I.A
- 锗光学零件8～11.5μm高效高稳定性减反射膜研究被引量：4
- 1998年
- 文中讨论了用于锗上的高效高稳定性宽带红外减反射膜的设计及制备，其特点为：（１）采用了吸收较大但膜层稳定性好的膜料以保证其性能；（２）运用等效折射率理论进行膜系设计，从而保证满意的光学性能。
- 李福升洪伟
- 关键词：减反射膜膜系设计等效折射率锗红外光学器件
- 红外镜头光学薄膜的发展和应用
- 红外光学系统主要应用于1～3μm、3.5～5μm和8～14μm(或更远波段),由红外光学镜头和红外探测器组成。为使探测器能够通过光学镜头实现对辐射源的探测,光学镜头必须通过防护性物方窗口、透镜、反射镜、光阑、滤光片、扫描...
- 洪伟
- 关键词：红外镜头光学薄膜减反射膜滤光片
- 文献传递
- 不同沉积工艺参数对YF3膜层应力的影响
- 薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提。YF3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷。通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理条件...
- 庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
- 关键词：应力红外光学薄膜
- 文献传递
- 红外镜头光学薄膜的发展和应用
- 2007年
- 红外光学系统主要应用于1～3μm、3.5～5μm和8～14 μm(或更远波段),由红外光学镜头和红外探测器组成.为使探测器能够通过光学镜头实现对辐射源的探测,光学镜头必须通过防护性物方窗口、透镜、反射镜、光阑、滤光片、扫描系统等完成光学信号的时间和空间滤波.从而以给定比例和质量实现物方空间目标和背景的分离.为保证目标最大辐射通量传送到探测器,必须保证通过光学镜头的辐射能量损失达到最小.为在特定波段实现以上目标,光学镜头中各种折射和反射元件需保证对工作波段的辐射能量具有尽可能低的吸收率、散射率,同时具有尽可能高的透过率和反射率,并且根据需要应能够实现一定的角度不敏感性.在光学设计过程中材料选择和元件光学参数设计合理的同时,光学薄膜的各种性能将是关键参数之一.红外光学薄膜可选沉积材料较少,而光学参数并未比可见光学薄膜有所降低,薄膜种类并未减少,包括减反射膜、高反射膜、带通滤光片、带阻滤光片、特种功能膜、分光膜等.由于工作波长是可见波长的2～20倍左右,因此膜层厚度增加很多,没有工艺技术上的特殊保证,将无法保证光学镜头的使用寿命.针对不断提高的光学指标要求,红外光学薄膜的沉积技术逐渐发展成熟,并且在各种红外光学薄膜产品上得以应用.
- 洪伟
- 关键词：红外镜头光学薄膜减反射膜滤光片
- 光学薄膜的损耗测试与分析被引量：10
- 2008年
- 随着激光基准系统和高精度激光测量系统的发展和应用,推动了超低损耗薄膜技术的发展,进一步控制损耗各分量的大小和分布,需要对光学薄膜总损耗进行测试分析。采用DIBS镀膜工艺在超光滑基底上镀制了高反膜和减反膜,给出了镀膜的工艺方法及工艺参数。通过分析时间衰减法测试总损耗的原理,分别采用时间衰减法和频率扫描法测试了光学薄膜的总损耗,在632.8nm波长点的测试结果为:高反膜层吸收为19.6×10-6,反射率达到99.99686%;减反膜层总损耗为78×10-6。最后对光学薄膜总损耗的构成和工艺改进进行了探讨。
- 季一勤崔玉平刘华松宗杰宋洪君洪伟姜福灏孙赤权
- 关键词：高反膜减反膜
