2024年12月11日
星期三
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
耿涛
作品数:
2
被引量:1
H指数:1
供职机构:
中国电子科技集团公司第二研究所
更多>>
相关领域:
电子电信
自动化与计算机技术
更多>>
合作作者
张慧军
中国电子科技集团公司第二研究所
段青鹏
中国电子科技集团公司第二研究所
申璐青
中国电子科技集团公司第二研究所
刘建功
中国电子科技集团公司第二研究所
杨子侠
中国电子科技集团公司第二研究所
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
2篇
中文期刊文章
领域
1篇
电子电信
1篇
自动化与计算...
主题
2篇
PLC控制
1篇
偏光片
1篇
浸渍设备
机构
2篇
中国电子科技...
作者
2篇
耿涛
1篇
闫旭宏
1篇
申璐青
1篇
段青鹏
1篇
董哲
1篇
张慧军
1篇
杨子侠
1篇
刘建功
传媒
1篇
电子工业专用...
1篇
科技信息
年份
1篇
2013
1篇
2009
共
2
条 记 录,以下是 1-2
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
CPJ-1600偏光片除泡机的研制
2009年
本文介绍了CPJ-1600型偏光片除泡机的主要技术指标、机械结构、控制系统,重点介绍了加热及强制热循环系统用来保证炉内工作区温度及其均匀性。
杨子侠
刘建功
耿涛
闫旭宏
董哲
关键词:
PLC控制
真空-压力浸渍设备的研制
被引量:1
2013年
真空-压力浸渍设备主要用于无线电元件、电器产品的真空加压浸渍,是现代电子产业高标准,高要求所必需的生产设备。介绍了真空-压力浸渍设备在工业浸渍中所应实现的功能流程,以及此设备的主要技术指标,介绍了其主要的机械结构设计,最后对整个设备的控制系统和软件设计也作了简单总结。
申璐青
张慧军
段青鹏
耿涛
关键词:
PLC控制
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张