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赵志宏

作品数:7 被引量:3H指数:1
供职机构:天津津航技术物理研究所更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 3篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 2篇机械工程
  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 6篇光学
  • 4篇红外
  • 3篇数对
  • 3篇光学薄膜
  • 2篇镀膜
  • 2篇镀膜工艺
  • 2篇应力
  • 2篇通路
  • 2篇热辐射
  • 2篇光孔
  • 2篇光学成像
  • 2篇光学窗口
  • 2篇测试系统
  • 2篇成像
  • 1篇增透
  • 1篇膜层
  • 1篇环境试验
  • 1篇减反射膜
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数

机构

  • 7篇天津津航技术...

作者

  • 7篇赵志宏
  • 4篇季一勤
  • 3篇洪伟
  • 3篇庄克文
  • 2篇甘硕文
  • 2篇廉伟艳
  • 1篇冷健

传媒

  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇2004年全...
  • 1篇二〇〇六年全...
  • 1篇2006年全...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 3篇2006
  • 1篇2004
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
一种中长波红外复合增透保护薄膜及制备方法
本申请提供一种中长波红外复合增透保护薄膜及制备方法,中长波红外复合增透保护薄膜包括镀膜基底,镀膜基底具有相对的第一面和第二面;第一膜系结构设于第一面,第一膜系结构包括第一膜层、第二膜层、第三膜层,以及最远离第一面的保护膜...
冷健赵志宏
不同沉积工艺参数对YF3膜层应力的影响
薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提.YF3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.本文通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理...
庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
关键词:红外光学薄膜工艺参数
文献传递
不同沉积工艺参数对YF_3膜层应力的影响被引量:3
2006年
薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提。YF_3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷.通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理条件对 YF_3膜层应力的影响,分析了 YF_3膜层的应力随所选定工艺参数的变化规律.
庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
关键词:应力红外光学薄膜
一种光学窗口高温成像性能测试系统及其使用方法
本申请提供一种光学窗口高温成像性能测试系统及其使用方法,其中一种光学窗口高温成像性能测试系统,包括:高温加热炉,其两侧设有第一炉门和第二炉门且高温加热炉内设有第一腔体;光学窗口,设于第一腔体内,光学窗口的轴线方向设为第一...
廉伟艳张荣实甘硕文赵志宏
锗基底8~11.5μm减反射膜研究
在锗基底上采用锗、硫化锌、氟化物混合材料研制减反射膜,使得(8-)11.5μm波段的平均透过率不小于97%,要求该膜满足国标要求,并能够通过严酷的环境试验.
宋洪君赵志宏季一勤
关键词:减反射膜环境试验镀膜工艺光学性能
文献传递
不同沉积工艺参数对YF3膜层应力的影响
薄膜材料的选择及其膜层特性的研究,是光学薄膜技术的基础和前提。YF3硬度较高,折射率较低,是优选的红外低折射率材料,但存在成膜后膜层的应力较大的缺陷。通过研究镀膜过程中基片的烘烤温度、辅助离子源能量以及成膜后的热处理条件...
庄克文季一勤宋洪君赵志宏洪伟
关键词:应力红外光学薄膜
文献传递
一种光学窗口高温成像性能测试系统及其使用方法
本申请提供一种光学窗口高温成像性能测试系统及其使用方法,其中一种光学窗口高温成像性能测试系统,包括:高温加热炉,其两侧设有第一炉门和第二炉门且高温加热炉内设有第一腔体;光学窗口,设于第一腔体内,光学窗口的轴线方向设为第一...
廉伟艳张荣实甘硕文赵志宏
共1页<1>
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