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王景全

作品数:7 被引量:16H指数:2
供职机构:四川大学物理科学与技术学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 5篇机械工程
  • 5篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇光刻
  • 3篇干涉光刻
  • 2篇掩模
  • 2篇无掩模
  • 2篇相干
  • 2篇光栅
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射光栅
  • 1篇三明治
  • 1篇数字光刻
  • 1篇无掩模光刻
  • 1篇物镜
  • 1篇物镜设计
  • 1篇误差分析
  • 1篇相干光
  • 1篇相位光栅
  • 1篇模拟软件
  • 1篇金属膜
  • 1篇混合编程
  • 1篇激光

机构

  • 7篇四川大学
  • 2篇武警成都指挥...

作者

  • 7篇杜惊雷
  • 7篇王景全
  • 4篇张志友
  • 3篇方亮
  • 3篇牛晓云
  • 2篇郭永康
  • 2篇郑宇
  • 2篇郭小伟
  • 1篇陈铭勇
  • 1篇罗铂靓
  • 1篇段茜
  • 1篇马延琴
  • 1篇李敏
  • 1篇金凤泽

传媒

  • 2篇光子学报
  • 2篇四川大学学报...
  • 1篇中国激光
  • 1篇激光技术

年份

  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 1篇2008
  • 2篇2007
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
数字灰度光刻成像物镜设计被引量:1
2009年
为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA=0.3,工作波长λ=442nm,倍率10×,分辨率R≤1.2μm,焦深4μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.
陈铭勇杜惊雷郭小伟马延琴王景全
关键词:无掩模光刻光刻物镜光学设计
SPPs光刻曝光显影模拟研究被引量:2
2010年
基于薄层抗蚀剂的曝光模型,建立了普遍适应于表面等离子体激元光刻的抗蚀剂曝光模型.选用AZ1500和AR3170两种抗蚀剂对表面等离子体激元干涉光刻曝光显影过程进行计算对比,获得表面等离子体激元光刻显影的最终轮廓.由此得出工艺优化的条件,对表面等离子体激元光刻的进一步工作和实验开展有着重要的意义.
郑宇王景全李敏牛晓云杜惊雷
关键词:干涉光刻
用等腰三角形位相光栅进行相干光并束的研究被引量:1
2007年
为了满足未来惯性约束激光核聚变(ICF)的快速点火装置对高能量激光束的要求,提出并特殊设计了一种可用于ICF系统中相干并束的等腰三角形位相光栅。模拟计算和分析的结果表明,这种等腰三角形位相光栅对4束相干激光并束的效率理论上可以达到90.2%,比普通的二元达曼型位相光栅的衍射效率高22个百分点。相对而言,该光栅具有加工难度低、误差宽容度大等优点,有较强的实用前景。
王景全罗铂靓张志友方亮杜惊雷
关键词:衍射光栅
用二维正弦相位光栅实现阵列激光相干并束被引量:7
2008年
相干并束是获得高功率激光束的一种有效方法,特殊设计的二维正弦相位光栅是一种较好的并束元件。介绍了二维正弦相位光栅并束的设计方案,计算表明,在3×3和4×4分束时分束效率分别为81.1%和73.1%,与常用的达曼光栅相比分别提高37%和26.9%。对正弦相位光栅的制作和误差分析表明,并束效率存在极大值,给光栅的制作带来较大的误差宽容度,分束与并束在光栅表面的光场存在一定差别。如果仅用于并束,并束效率还有提高的可能。
王景全方亮张志友杜惊雷郭永康
关键词:激光技术误差分析
无掩模多束SPPs干涉光刻成像仿真软件研究
2009年
多束SPPs干涉光刻是一种可制作纳米尺度光子晶体器件的新型微加工方法,目前尚未见对多束SPPs干涉光刻过程进行模拟分析的专门软件.在分析SPPs激励和传输机理基础上,建立多束SPPs干涉成像模型,并采用VC和Matlab库函数混合编程编制了可计算多束SPPS干涉光刻成像的仿真软件.模拟和分析表明,该模型及软件计算准确、快速,达到预期效果,为实现无掩模SPPs干涉光刻全过程模拟和曝光实验研究的开展提供了技术支撑.
郑宇王景全金凤泽张志友牛晓云杜惊雷
关键词:干涉光刻模拟软件混合编程
超分辨干涉光刻的波导器件
超分辨干涉光刻的波导器件是带有三明治波导层的底部镀有纳米厚度金属膜的梯形棱镜。其中波导层是由折射率不同的介质构成,数十纳米厚度的折射率为n<Sub>2</Sub>的介质和折射率为n<Sub>3</Sub>的介质嵌套在棱镜...
王景全牛晓云杜惊雷郭永康
文献传递
多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究被引量:5
2007年
在DMD(Digital Micromirror Device)数字光刻系统中使用微透镜阵列聚焦可在像面获得灰度点阵图形,若曝光的同时基底按预设计的方式同步扫描,则可形成所需求的曝光场分布.这一方法用于衍射微光学元件(DOE)制作,可方便快捷获得高质量的连续面形微结构.文中通过对扫描方式的分析和计算,给出了适于菲涅耳微透镜制作的基片台扫描参数和模拟结果,为用该系统进行DOE实际制作提供了依据.
方亮段茜郭小伟王景全张志友杜惊雷
关键词:DMD数字光刻分辨率DOE
共1页<1>
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