黄建东
- 作品数:9 被引量:14H指数:2
- 供职机构:南京航空航天大学机电学院更多>>
- 发文基金:中国博士后科学基金江苏省博士后科研资助计划项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:金属学及工艺理学机械工程电子电信更多>>
- 固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度模型修正
- 2015年
- 考虑磨粒轨迹和研磨垫弹性的影响,分析磨粒间距的概率密度函数,计算磨粒轨迹重叠率;引入与研磨参数相关的修正因子,并确定其值,修正固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度公式,实验验证修正模型。结果表明:修正后,K9玻璃表面粗糙度模型计算值与实验值误差控制在4%以内。显著提高K9玻璃表面粗糙度的预测精度,有效指导其研磨方案设计,提高加工效率。
- 王慧敏李军王文泽黄建东朱永伟左敦稳
- 关键词:表面粗糙度模型修正
- 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光铜的加工方法,其特征是采用氧化铈固结磨料抛光垫对铜或铜膜进行抛光加工,控制抛光温度在10~30℃,抛光压力控制在10~50 kPa,抛光液由不含磨料的去离子水、表面活性剂、抑制剂、配位剂、pH调节...
- 李军黄建东朱永伟左敦稳宋龙龙
- 文献传递
- 一种固结磨料化学机械抛光钽的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光钽(Ta)的加工方法,其特征是包括:采用氧化铈固结磨料抛光垫对钽或钽膜进行抛光加工,加工过程中控制抛光压力在10~100kpa之间,抛光盘的转速控制在50~150rpm之间,抛光液为不含磨料的去离...
- 李军宋龙龙朱永伟左敦稳黄建东
- 硫化锌晶体固结磨料抛光研究
- 随着红外技术的快速发展,硫化锌晶体广泛应用于红外成像、红外制导、红外对抗等技术领域。由于硫化锌具有软脆特性,加工过程中容易在工件表面产生划痕、微裂纹等表面缺陷,从而影响器件的性能和使用寿命。本文采用固结磨料抛光硫化锌晶体...
- 黄建东
- 关键词:半导体材料表面抛光
- 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光铜的加工方法,其特征是采用氧化铈固结磨料抛光垫对铜或铜膜进行抛光加工,控制抛光温度在10~30℃,抛光压力控制在10~50kPa,抛光液由不含磨料的去离子水、表面活性剂、抑制剂、配位剂、pH调节剂...
- 李军黄建东朱永伟左敦稳宋龙龙
- 文献传递
- 固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度模型被引量:7
- 2015年
- 表面粗糙度模型是研磨过程设计和工艺参数选择的重要依据,K9玻璃是应用最广泛的光学材料之一。建立研磨K9玻璃表面粗糙度模型有利于提高加工效率、节约生产成本。简化固结磨料研磨过程,基于研磨垫表面微结构,计算研磨过程中参与研磨的有效磨粒数和单颗磨粒切入工件深度,利用研磨过程中受力平衡,建立固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度模型。采用不同磨粒粒径和不同磨料浓度的固结磨料研磨垫以及不同压力研磨K9玻璃验证表面粗糙度模型。结果表明:固结磨料研磨K9玻璃的表面粗糙度与磨粒粒径、研磨压力1/3次方成正比,与研磨垫浓度2/9次方成反比。表面粗糙度理论值与试验值随研磨压力、磨粒粒径和研磨垫浓度的变化趋势吻合。利用该模型能够成功预测固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度,指导研磨过程设计及加工过程中研磨垫和工艺参数的选择,可靠性高。
- 李军王慧敏王文泽黄建东朱永伟左敦稳
- 关键词:表面粗糙度
- 不同粒径金刚石固结磨料抛光硫化锌晶体研究被引量:2
- 2017年
- 磨粒粒径是影响抛光最重要的参数之一,是决定加工效率和工件表面质量的关键要素。采用1~3μm、2~4μm、3~5μm 3种粒径的金刚石固结磨料抛光垫加工硫化锌晶体,分析磨粒粒径对工件表面质量和材料去除率的影响。实验结果表明,磨粒粒径对硫化锌晶体的固结磨料抛光影响显著,随着磨粒粒径的增大,固结磨料抛光硫化锌晶体的材料去除率增大,而表面质量变差。2~4μm金刚石固结磨料抛光垫加工硫化锌晶体可同时获得高材料去除率和优表面质量,材料去除率达到100 nm/min,表面粗糙度为4.37 nm。
- 黄金库李军黄建东左敦稳申翔宇杨楠郁玥周志云
- 关键词:硫化锌粒径材料去除率
- 抛光液酸碱性对固结磨料抛光硫化锌晶体的影响被引量:3
- 2016年
- 硫化锌晶体是一种重要的红外光学材料,在红外成像、导弹制导、红外对抗等红外技术领域应用广泛。抛光液能够与工件及抛光垫发生化学反应从而影响工件表面质量和材料去除率。实验采用乙二胺、氢氧化钠、柠檬酸、盐酸分别配制不同的酸碱性抛光液,研究抛光液酸碱性对固结磨料抛光硫化锌晶体材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响。实验结果表明:酸性抛光液抛光的材料去除率高于碱性抛光液;柠檬酸抛光液可同时获得优表面质量和高加工效率,抛光后的晶体表面粗糙度Sa值为4.22 nm,材料去除率为437 nm/min。
- 黄建东李军宋龙龙花成旭胡章贵朱永伟左敦稳
- 关键词:抛光液硫化锌表面粗糙度材料去除率
- 一种固结磨料化学机械抛光钽的加工方法
- 一种固结磨料化学机械抛光钽(Ta)的加工方法,其特征是包括:采用氧化铈固结磨料抛光垫对钽或钽膜进行抛光加工,加工过程中控制抛光压力在10~100 kpa之间,抛光盘的转速控制在50~150 rpm之间,抛光液为不含磨料的...
- 李军宋龙龙朱永伟左敦稳黄建东
- 文献传递