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陈军

作品数:22 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:自动化与计算机技术理学文化科学电子电信更多>>

文献类型

  • 19篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇机械工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇文化科学
  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 6篇元件
  • 6篇光学
  • 4篇面形
  • 4篇表面形貌
  • 3篇等离子体
  • 3篇熔石英
  • 3篇平面度
  • 3篇平面度测量
  • 3篇周期
  • 3篇位移传感器
  • 3篇下表面
  • 3篇龙门式
  • 3篇模组
  • 3篇结构光
  • 3篇活跃度
  • 3篇激光位移传感...
  • 3篇感器
  • 3篇处理器
  • 3篇传感
  • 3篇传感器

机构

  • 22篇中国科学院上...
  • 7篇上海恒益光学...
  • 2篇中国科学院大...

作者

  • 22篇陈军
  • 10篇徐学科
  • 9篇邵建达
  • 6篇顿爱欢
  • 4篇吴福林
  • 4篇杨明红
  • 2篇郭凯
  • 2篇程鑫
  • 2篇黄惠杰
  • 2篇黄立华
  • 2篇凌丽青
  • 2篇陈贝特
  • 2篇彭雪峰
  • 1篇顾建勋
  • 1篇魏朝阳
  • 1篇李颖峰
  • 1篇朱宝钤
  • 1篇曹俊

传媒

  • 1篇中国激光
  • 1篇光学学报

年份

  • 4篇2024
  • 3篇2023
  • 3篇2022
  • 1篇2021
  • 4篇2020
  • 2篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
22 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
基于壁面反射增强模型的熔石英刻蚀形貌形成机理研究
2023年
大气等离子体刻蚀是一种非接触式、材料去除可控的加工方法,在光学元件的高精度加工中具有广泛的应用前景。但是大气等离子体刻蚀后元件存在表面形貌恶化的问题,严重影响元件的性能和使用寿命。进行氢氟酸刻蚀实验,证明了元件表面形貌的恶化是由氟碳化合物和表面凹坑微结构两个原因引起的。为了解释表面凹坑微结构的形成,提出基于micro-mask壁面反射增强理论的凹坑形成模型,并开展了样品表面旋涂金纳米颗粒充当micro-mask的刻蚀实验。实验结果验证了micro-mask壁面反射增强模型的正确性,为解决大气等离子体刻蚀后元件表面形貌恶化问题提供了新的思路和方法。
陈军王林魏朝阳魏朝阳
关键词:熔石英表面形貌大气等离子体
一种抛光模修盘周期的检测装置
一种抛光模修盘周期的检测装置,该装置包括光学检测组件、处理器、水平度测量组件。该装置的光学检测组件使用结构光对抛光模表面形貌进行探测,处理器通过接收的包含抛光模表面形貌信息的探测光,计算处理得到抛光模表面沟槽的深度和宽度...
陈军邵建达张慧方吴伦哲杨明红吴福林秦豪杰
一种抛光模修盘周期的检测装置及检测方法
一种抛光模修盘周期的检测装置及检测方法,该装置包括光学检测组件、处理器、水平度测量组件。该装置的光学检测组件使用结构光对抛光模表面形貌进行探测,处理器通过接收的包含抛光模表面形貌信息的探测光,计算处理得到抛光模表面沟槽的...
陈军邵建达张慧方吴伦哲杨明红吴福林秦豪杰
单轴机循环稳定注液装置
一种单轴机循环稳定注液装置,该装置包括铁笔、铁笔座、夹具、工件、抛光模、水槽、一级滤芯、二级滤芯、第一储液槽、三级滤芯、节流阀、水管、泵、出水口、叶轮、第二储液槽及圆管。本实用新型采用多级过滤和双桶静置的方式保证了抛光液...
曹俊顿爱欢吴伦哲陈军程鑫嵇文超吴福林徐学科
大型环抛机抛光胶盘面形检测装置
一种大型环抛机抛光胶盘面形检测装置,包括平直导轨、激光器、透镜组、照明狭缝、分光棱镜、五角棱镜、直角棱镜、底座、CCD、位移调节装置、移动台和可伸缩套筒,本发明可对大型环抛机抛光胶盘面形进行检测,该装置结构简单,操作方便...
陈军朱宝钤徐学科顿爱欢顾建勋李颖峰
文献传递
磷酸盐激光钕玻璃存储寿命预估及评定方法
磷酸盐激光钕玻璃元件存储寿命预估及评定方法,包括:待存储磷酸盐激光钕玻璃元件的取样并测试;确定影响磷酸盐激光钕玻璃元件存储寿命的加速模型;开展磷酸盐激光钕玻璃元件存储寿命的环境参数加速实验;环境参数加速实验后元件性能测试...
陈军徐学科顿爱欢张建国周天邵建达
一种抛光模修盘周期的检测装置及检测方法
一种抛光模修盘周期的检测装置及检测方法,该装置包括光学检测组件、处理器、水平度测量组件。该装置的光学检测组件使用结构光对抛光模表面形貌进行探测,处理器通过接收的包含抛光模表面形貌信息的探测光,计算处理得到抛光模表面沟槽的...
陈军邵建达张慧方吴伦哲杨明红吴福林秦豪杰
文献传递
环形抛光中方形元件塌角控制方法的理论分析
2020年
全口径环形抛光中方形元件的材料去除率存在从中心到边角位置越来越大的现象,致使抛光工件出现塌角的面形,影响了方形光学元件的面形质量。基于Preston方程,通过改变元件的多种运动轨迹,计算了方形光学元件全口径的材料去除率分布。通过分析发现:使方形光学元件在保持原有自转的同时沿抛光模径向或与径向有一定夹角的方向摆动,且附加在元件整个抛光面上的运动速度保持一致时,可使方形元件的材料去除率分布得更均匀。通过附加这种运动方式可以有效控制方形元件的塌角现象。
张慧方顿爱欢徐学科陈军吴福林吴伦哲
关键词:光学制造抛光面形材料去除率
大型环拋机校正盘下表面平面度测量装置及方法
一种大型环抛机校正盘下表面平面度测量装置,该装置包括承载校正盘的转位台和位于转位台内部的测量模组。转位台自下而上是底座、万向球平台、测量狭缝、固定立柱、活动立柱和辅助轮。测量模组自下而上依次是万向轮、平台、水槽、龙门式框...
陈军邵建达张慧方吴伦哲吴福林张一林
激光钕玻璃元件机械化清洗装置
一种激光钕玻璃元件机械化清洗装置,该装置包括框架式机架,机架的顶部是风机系统;在水平方向上,机架自右向左,依次是上料单元、研磨抛光单元、喷淋刷洗单元和下料单元。各单元通过传送机构依次连接。本发明的装置整个过程机械控制,对...
邵建达杨明红陈军徐学科吴福林
文献传递
共3页<123>
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