您的位置: 专家智库 > >

文献类型

  • 13篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 11篇红外
  • 10篇探测器
  • 6篇焦平面
  • 6篇红外焦平面
  • 5篇焦平面探测器
  • 5篇红外焦平面探...
  • 4篇芯片
  • 4篇红外探测
  • 4篇红外探测器
  • 3篇锑化铟
  • 3篇锑化镓
  • 3篇脱水
  • 2篇多元红外探测...
  • 2篇信号
  • 2篇虚假
  • 2篇虚假信号
  • 2篇载流
  • 2篇载流子
  • 2篇水处理
  • 2篇抛光

机构

  • 14篇中国电子科技...

作者

  • 14篇肖钰
  • 5篇程雨
  • 4篇赵建忠
  • 3篇李春领
  • 2篇郭喜
  • 1篇韦书领
  • 1篇谭振
  • 1篇邢伟荣

传媒

  • 1篇电子器件

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2020
  • 3篇2019
  • 3篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
锑化铟红外焦平面器件钝化前脱水工艺研究被引量:2
2019年
设计了一种专门用于锑化铟红外探测器器件工艺中钝化前的脱水处理工艺技术。包含脱水、干燥和表面处理等一系列的工艺步骤,可作为基于锑化铟材料的焦平面红外探测器器件中钝化前的标准化处理工艺。针对脱水工艺设计中遇到的问题对操作方式进行了重新设计和改进,避免了工艺引入杂质和离子对器件性能造成影响。改进后的工艺在脱水处理后采用高温烘干与吹扫相结合的方式对芯片进行干燥,并加入预处理工艺对脱水后钝化前的芯片进行表面处理,从而使锑化铟材料红外器件工艺适应各种环境湿度的工艺条件。
亢喆曹海娜邱国臣肖钰
关键词:锑化铟预处理脱水
红外焦平面探测器像元失效检测方法
本发明公开了一种红外焦平面探测器像元失效检测方法,所述检测方法包括:将待测红外焦平面探测器倒置在测试杜瓦中,使所述待测红外焦平面探测器的芯片与测试杜瓦的冷头相对。根据本发明提出的检测方法,能够在红外焦平面探测器各个工艺步...
肖钰范博文
文献传递
红外焦平面探测器的减薄方法及探测器
本发明公开了一种红外焦平面探测器的减薄方法及探测器,所述减薄方法,包括:采用减薄装置按预定厚度多次对红外焦平面探测器进行减薄加工;其中,每次对所述红外焦平面探测器进行减薄加工后,将所述红外焦平面探测器从所述减薄装置上取下...
肖钰韦书领程雨曹凌霞
文献传递
锑化铟红外探测器脱水处理方法
本发明公开了一种锑化铟红外探测器脱水处理方法,包括:台面腐蚀之后的锑化铟红外探测器进行预处理;预处理之后的锑化铟红外探测器放入甲醇中进行脱水处理;将脱水处理后的锑化铟红外探测器放在臭氧氧化设备内依次进行干燥处理和臭氧氧化...
亢喆邱国臣肖钰
文献传递
一种避免红外探测器芯片在减薄中裂片的方法
本发明公开了一种避免红外探测器芯片在减薄中裂片的方法,本发明中每一步均采取给芯片尽可能小的受力,并适时释放芯片内部应力,使芯片因互连压力造成的形变随着减薄过程逐渐减少,最终实现了减薄过程不裂片的目的,提高了互连后形变量较...
程雨肖钰曹凌霞黄婷刘世光
文献传递
一种制冷型红外焦平面探测器背面减薄方法
本发明公开了一种制冷型红外焦平面探测器背面减薄方法,该方法包括:通过金刚石切削机将制冷型红外焦平面探测器粗加工到第一预定厚度;进一步通过所述金刚石切削机将粗加工到第一预定厚度的制冷型红外焦平面探测器精加工到第二预定厚度。...
肖钰赵建忠
文献传递
一种抛光液及应用该抛光液对锑化镓晶片进行抛光的方法
本发明公开了一种抛光液及应用该抛光液对锑化镓进行抛光的方法,本发明的抛光液对锑化镓材料抛光去除速率高,抛光后晶片表面光洁平坦,并且无崩边掉渣,且本发明的抛光工艺方法简单,人为控制因素较少,可用率大大提高,有利于降低成本。
程雨肖钰李春领
一种制冷型红外焦平面探测器背面减薄方法
本发明公开了一种制冷型红外焦平面探测器背面减薄方法,该方法包括:通过金刚石切削机将制冷型红外焦平面探测器粗加工到第一预定厚度;进一步通过所述金刚石切削机将粗加工到第一预定厚度的制冷型红外焦平面探测器精加工到第二预定厚度。...
肖钰赵建忠
文献传递
锑化铟红外探测器脱水处理方法
本发明公开了一种锑化铟红外探测器脱水处理方法,包括:台面腐蚀之后的锑化铟红外探测器进行预处理;预处理之后的锑化铟红外探测器放入甲醇中进行脱水处理;将脱水处理后的锑化铟红外探测器放在臭氧氧化设备内依次进行干燥处理和臭氧氧化...
亢喆邱国臣肖钰
文献传递
一种多元红外探测器台面器件及其制作方法
本发明公开了一种多元红外探测器台面器件及其制作方法,其中,该方法区别于传统台面器件制作工艺,采用开槽隔离工艺将台面器件的有效光敏像元之间进行隔离,以避免光生载流子的不规则运动和收集;同时为了避免无效光敏区域产生的光生载流...
郭喜肖钰邱国臣赵建忠
文献传递
共2页<12>
聚类工具0