王磊
- 作品数：11 被引量：17H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：上海市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法被引量：5
- 2015年
- 提出了一种基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法。将光源信息编码为粒子,利用图形误差作为评价函数,通过更新粒子的速度与位置信息不断迭代优化光源图形。对周期接触孔阵列和含有交叉门的复杂掩模图形的仿真验证表明,两者的图形误差分别降低了66.1%和27.3%,有效提高了光刻成像质量。与基于遗传算法的光源优化方法相比,该方法具有更快的收敛速度。另外,还研究了像差和离焦对本方法稳健性的影响。
- 王磊李思坤王向朝闫观勇杨朝兴
- 关键词：光学制造光刻分辨率增强技术粒子群优化
- 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法
- 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法，本发明分为建模阶段和像差提取阶段，建模阶段先设定光的偏振态、投影物镜的偏振像差以及数值孔径等参数，仿真空间像，对仿真空间像进行主成分分析和多元线性回归分析，得到相应的主成分和回...
- 诸波尔李思坤王向朝闫观勇沈丽娜王磊
- 光刻机掩模的优化方法
- 一种光刻机掩模的优化方法，该方法利用离散余弦变换将基于像素表示的掩模信息转换到频域，截取低频部分作为优化变量并将其编码为粒子，将理想图形与当前掩模对应的光刻胶像每一点差异的平方和作为评价函数，通过粒子群优化算法优化掩模图...
- 王磊王向朝李思坤杨朝兴
- 文献传递
- 结合显微成像的多波长样品光限幅性能的测量装置和测量方法
- 一种结合显微成像的多波长样品光限幅性能的测量装置，包括飞秒激光器、OPA装置、镀膜全反镜Ⅱ、光阑Ⅰ、光阑Ⅱ、安装在电动旋转台上的格兰泰勒棱镜Ⅰ、格兰泰勒棱镜Ⅱ、镀膜全反射镜、照明光源、分束镜Ⅰ、镀膜全反射镜Ⅳ、分束镜Ⅱ、...
- 王俊王磊张赛锋李源鑫
- 文献传递
- 基于粒子群优化算法的光刻机光源优化方法
- <正>光源优化技术是一种重要的光刻分辨率增强技术。基于遗传算法(Genetic Algorithm,GA)的光源优化方法适应性强,可以选择任意的成像模型和优化目标,但在优化时通过'交叉'进行信息共享,导向性不明确,收敛速...
- 王磊李思坤王向朝闫观勇杨朝兴
- 文献传递
- 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法
- 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法，本发明分为建模阶段和像差提取阶段，建模阶段先设定光的偏振态、投影物镜的偏振像差以及数值孔径等参数，仿真空间像，对仿真空间像进行主成分分析和多元线性回归分析，得到相应的主成分和回...
- 诸波尔李思坤王向朝闫观勇沈丽娜王磊
- 文献传递
- 光刻机掩模的优化方法
- 一种光刻机掩模的优化方法，该方法利用离散余弦变换将基于像素表示的掩模信息转换到频域，截取低频部分作为优化变量并将其编码为粒子，将理想图形与当前掩模对应的光刻胶像每一点差异的平方和作为评价函数，通过粒子群优化算法优化掩模图...
- 王磊王向朝李思坤杨朝兴
- 文献传递
- 基于线性规划的光刻机光源优化方法
- <正>光刻技术是极大规模集成电路制造的关键技术之一。光刻分辨率决定集成电路芯片的特征尺寸。在曝光波长与数值孔径一定的情况下,需通过改善光刻工艺和采用分辨率增强技术减小工艺因子,提高光刻分辨率。光源优化(Source Op...
- 王磊李思坤王向朝杨朝兴
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- 基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法被引量：12
- 2017年
- 全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表征的投影物镜编码为粒子,以图形误差作为评价函数,通过不断迭代更新粒子,实现光源掩模投影物镜联合优化。在标称条件和工艺条件下,采用含有交叉门的复杂掩模图形对所提方法的仿真验证表明,图形误差分别降低了94.2%和93.8%,有效提高了光刻成像质量。与基于遗传算法的SMPO方法相比,该方法具有更快的收敛速度。此外,该方法具有优化自由度高和优化后掩模可制造性强的优点。
- 王磊李思坤李思坤杨朝兴
- 关键词：光学制造光刻分辨率增强技术
- 一种光刻机光源的优化方法
- 一种光刻机光源优化方法，以像素化的光源为粒子，将理想图形与当前光源照明模式下掩模对应的光刻胶像每一点差异的平方和作为目标函数，利用含有线性递减权重和压缩因子的粒子群优化算法，通过更新粒子的速度与位置信息迭代优化光源图形。...
- 王磊王向朝李思坤闫观勇杨朝兴
- 文献传递
