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佘辉
作品数:
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供职机构:
中国科学院半导体研究所
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合作作者
叶式中
中国科学院半导体研究所
焦景华
中国科学院半导体研究所
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作者
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焦景华
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叶式中
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佘辉
年份
1篇
1992
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一种去除熔体表面浮渣的技术
本发明公开了一种在切克劳斯基单晶炉内去除熔体表面浮渣的技术,它在生长晶体的一般坩埚上设置一个底部有孔口的上坩埚,并有一个托盘连接直柄穿过孔口提托上坩埚,先使固体物料在上坩埚中熔融,再让熔体从孔口漏入下坩埚,然后提托上坩埚...
焦景华
佘辉
叶式中
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