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文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 2篇氮化碳
  • 2篇氮化碳薄膜
  • 2篇等离子体化学...
  • 2篇碳氮薄膜
  • 2篇气体放电
  • 2篇微波等离子体
  • 2篇微波等离子体...
  • 2篇晶相
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇工作气体
  • 2篇放电

机构

  • 2篇中国科学院

作者

  • 2篇赵敏学
  • 2篇段振军
  • 2篇顾有松
  • 2篇常香荣
  • 2篇田中卓
  • 2篇袁磊

年份

  • 1篇2002
  • 1篇1999
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
微波等离子体化学气相沉积合成晶相碳氮薄膜
本发明涉及用微波等离子体化学气相沉积法合成碳氮薄膜及装置。将基片经过预处理后,置于工作腔内,按一定比例通入工作气体,然后将微波通入工作腔内,使气体放电产生等离子体从而沉积薄膜。用这种方法合成的氮化碳薄膜均匀、致密,无杂质...
田中卓袁磊顾有松段振军常香荣赵敏学
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微波等离子体化学气相沉积合成晶相碳氮薄膜
本发明涉及用微波等离子体化学气相沉积法合成碳氮薄膜及装置。将基片经过预处理后,置于工作腔内,按一定比例通入工作气体,然后将微波通入工作腔内,使气体放电产生等离子体从而沉积薄膜。用这种方法合成的氮化碳薄膜均匀、致密,无杂质...
田中卓袁磊顾有松段振军常香荣赵敏学
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共1页<1>
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