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杨伟生

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：昆明物理研究所更多>>
发文基金：北京市自然科学基金更多>>
相关领域：医药卫生更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇医药卫生

主题

  • 1篇电阻率
  • 1篇叠层
  • 1篇叠层结构
  • 1篇显示技术
  • 1篇铜
  • 1篇钼
  • 1篇层结构

机构

  • 1篇北京理工大学
  • 1篇昆明物理研究...
  • 1篇京东方科技集...

作者

  • 1篇张学辉
  • 1篇柳逢春
  • 1篇喻志农
  • 1篇薛建设
  • 1篇薛唯
  • 1篇杨伟生

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2015
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
钼缓冲层对钼/铜叠层结构电极特性的影响被引量：1
2015年
采用直流磁控溅射方法制备了钼/铜叠层结构电极,其电阻率达到2.28μΩ·cm,显著低于铝钕合金的电阻率;金属钼作为缓冲层,提高了铜电极在玻璃上的附着力;钼作为阻挡层有效地阻挡了铜向非晶硅中的扩散,避免了铜对于薄膜晶体管有源层的影响。采用这种结构的电极作为大尺寸高分辨平板显示器的扫描线和数据线有望缓解信号延迟的问题。
李旭远薛唯喻志农薛建设张学辉柳逢春杨伟生
关键词：显示技术电阻率
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